阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率 : 1.40% (2024年3月 最新)
阿斯麦股本回报率 ROE %/市净率(ROE % Adjusted to Book Value)的相关内容及计算方法如下:
股本回报率 ROE %/市净率 由 股本回报率 ROE % 除以该公司的 市净率 而得。截至2024年3月, 阿斯麦 过去一季度 股本回报率 ROE % 为 35.88%, 过去一季度 市净率 为 25.54,所以 阿斯麦 过去一季度 的 股本回报率 ROE %/市净率 为 1.40%。
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阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率 (ASML 股本回报率 ROE %/市净率) 历史数据
阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率的历史年度,季度/半年度走势如下:
阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股本回报率 ROE %/市净率 | 3.12 | 3.95 | 3.62 | 3.63 | 4.58 | 2.38 | 2.33 | 1.68 | 2.48 | 3.51 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股本回报率 ROE %/市净率 | 2.29 | 1.05 | 2.87 | 3.97 | 3.87 | 3.30 | 3.09 | 3.67 | 3.20 | 1.40 |
阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率 (ASML 股本回报率 ROE %/市净率) 行业比较
在半导体仪器和材料(三级行业)中,阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率与其他类似公司的比较如下:
阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率 (ASML 股本回报率 ROE %/市净率) 分布区间
在半导体(二级行业)和科技(一级行业)中,阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率的分布区间如下:
阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率 (ASML 股本回报率 ROE %/市净率) 计算方法
截至2023年12月,阿斯麦过去一年的股本回报率 ROE %/市净率为:
股本回报率 ROE %/市净率 | = | 年度 股本回报率 ROE % | / | 年度 市净率 |
= | 71.23% | / | 20.30 | |
= | 3.51% |
截至2024年3月,阿斯麦 过去一季度 的股本回报率 ROE %/市净率为:
股本回报率 ROE %/市净率 | = | 季度 股本回报率 ROE % | / | 季度 市净率 |
= | 35.88% | / | 25.54 | |
= | 1.40% |
阿斯麦 股本回报率 ROE %/市净率 (ASML 股本回报率 ROE %/市净率) 相关词条
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阿斯麦 (ASML) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。