阿斯麦 每股息税前利润 : $ 23.13 (2024年3月 TTM)
阿斯麦每股息税前利润(EBIT per Share)的相关内容及计算方法如下:
截至2024年3月, 阿斯麦 过去一季度 的 每股息税前利润 为 $ 3.84。 阿斯麦 最近12个月的 每股息税前利润 为 $ 23.13。
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阿斯麦 每股息税前利润 (ASML 每股息税前利润) 历史数据
阿斯麦 每股息税前利润的历史年度,季度/半年度走势如下:
阿斯麦 每股息税前利润 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
每股息税前利润 | 3.37 | 3.73 | 4.11 | 6.43 | 7.91 | 7.39 | 11.79 | 18.61 | 17.34 | 25.56 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
阿斯麦 每股息税前利润 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
每股息税前利润 | 5.07 | 2.15 | 4.38 | 4.84 | 5.78 | 5.98 | 6.22 | 5.92 | 7.15 | 3.84 |
阿斯麦 每股息税前利润 (ASML 每股息税前利润) 计算方法
截至2023年12月,阿斯麦过去一年的每股息税前利润为:
每股息税前利润 | = | 年度 息税前利润 | / | 年度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 |
= | 10072 | / | 394.10 | |
= | 25.56 |
截至2024年3月,阿斯麦 过去一季度 的每股息税前利润为:
每股息税前利润 | = | 季度 息税前利润 | / | 季度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 |
= | 1512 | / | 393.70 | |
= | 3.84 |
阿斯麦 每股息税前利润 (ASML 每股息税前利润) 解释说明
每股息税前利润是指公司在扣除利息和税金之前的收益。它衡量公司从运营中产生的利润,而忽略税收负担和资本结构。由于未扣除税收费用,因此在比较同一行业但税收情况不同的公司时,每股息税前利润很有用。此外,利息费用也包含在每股息税前利润中,因此可以比较由于大量债务而产生高利息费用的公司。
阿斯麦 每股息税前利润 (ASML 每股息税前利润) 相关词条
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阿斯麦 (ASML) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。