阿斯麦 非流动递延负债 : $ 5593 (2024年3月 最新)
阿斯麦非流动递延负债(NonCurrent Deferred Liabilities)的相关内容及计算方法如下:
非流动递延负债属于长期负债,通常指应该已支付但实际过期未付的负债。
截至2024年3月, 阿斯麦 过去一季度 的 非流动递延负债 为 $ 5593。
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阿斯麦 非流动递延负债 (ASML 非流动递延负债) 历史数据
阿斯麦 非流动递延负债的历史年度,季度/半年度走势如下:
阿斯麦 非流动递延负债 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
非流动递延负债 | 292.62 | 279.67 | 418.67 | 1139.76 | 1678.95 | 2215.56 | 2284.92 | 3916.72 | 5865.36 | 5668.16 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
阿斯麦 非流动递延负债 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
非流动递延负债 | 3916.72 | 3914.54 | 5161.73 | 5150.10 | 5865.36 | 4754.18 | 4960.02 | 4489.22 | 5668.16 | 5592.50 |
阿斯麦 非流动递延负债 (ASML 非流动递延负债) 解释说明
非流动递延负债属于长期负债,通常指应该已支付但实际过期未付的负债。
阿斯麦 非流动递延负债 (ASML 非流动递延负债) 相关词条
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阿斯麦 (ASML) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。