价值大师评分 :
0
/100
1月
3月
6月
今年
1年
3年
5年
10年
15年
全部
3年:0%
阿斯麦 3年每股股利增长率 ％ : 32.70％ (今日)
* 除每股数值，比率，百分比，其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。
阿斯麦3年每股股利增长率 ％（3-Year Dividend Growth Rate (Per Share)）的相关内容及计算方法如下：
3年每股股利增长率 ％是公司提高股息的平均年增长率。根据最近四年的年度数据，以指数复合计算得出。 截至今日， 阿斯麦 的 3年每股股利增长率 ％ 为 32.70％。
阿斯麦3年每股股利增长率 ％或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示：
★ ★ ★ ★ ★
在过去十年内， 阿斯麦的3年每股股利增长率 ％
最小值：-60.7 中位数：26 最大值：44.2
当前值：32.7
★ ★ ★ ★ ★
在半导体内的 237 家公司中
阿斯麦的3年每股股利增长率 ％ 排名高于同行业 67.09% 的公司。
当前值：32.7 行业中位数：19.9
阿斯麦 1年每股股利增长率 ％ 为 -22.70％。 阿斯麦 3年每股股利增长率 ％ 为 32.70％。 阿斯麦 5年每股股利增长率 ％ 为 31.80％。 阿斯麦 10年每股股利增长率 ％ 为 30.10％。
在过去十年内， 阿斯麦的 3年每股股利增长率 ％ 最大值为 44.20％， 最小值为 -60.70％， 中位数为 26.00％。
阿斯麦 3年每股股利增长率 ％ （ASML 3年每股股利增长率 ％） 行业比较
在半导体仪器和材料（三级行业）中，阿斯麦 3年每股股利增长率 ％与其他类似公司的比较如下：
* 选自同一行业，市值最接近的公司；x轴代表市值，y轴代表3年每股股利增长率 ％数值；点越大，公司市值越大。
阿斯麦 3年每股股利增长率 ％ （ASML 3年每股股利增长率 ％） 分布区间
在半导体（二级行业）和科技（一级行业）中，阿斯麦 3年每股股利增长率 ％的分布区间如下：
* x轴代表3年每股股利增长率 ％数值，y轴代表落入该3年每股股利增长率 ％区间的公司数量；红色柱状图代表阿斯麦的3年每股股利增长率 ％所在的区间。
阿斯麦 3年每股股利增长率 ％ （ASML 3年每股股利增长率 ％） 计算方法
3年每股股利增长率 ％是公司提高股息的平均年增长率。根据最近四年的年度数据，以指数复合计算得出。
阿斯麦 3年每股股利增长率 ％ （ASML 3年每股股利增长率 ％） 解释说明
1. 股息支付率 又称“股利分配率”或“股利发放率”，是向股东分派的股息占公司盈利的比率。它反映公司的股利分配政策和股利支付能力。
* 除每股数值，比率，百分比，其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。
2. 股息率 ％ 是过去12个月的股息与当前股价之间的比率。在投资实践中，股息率是衡量企业是否具有投资价值的重要标尺之一。
* 除每股数值，比率，百分比，其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。
阿斯麦 3年每股股利增长率 ％ （ASML 3年每股股利增长率 ％） 相关词条
感谢查看价值大师中文站为您提供的阿斯麦3年每股股利增长率 ％的详细介绍，请点击以下链接查看与阿斯麦3年每股股利增长率 ％相关的其他词条：
阿斯麦 （ASML） 公司简介
一级行业：科技
二级行业：半导体
公司网站：https://www.asml.com
公司地址：De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介：ASML成立于1984年，总部位于荷兰，是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量，而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用，包括英特尔、三星和台积电。
二级行业：半导体
公司网站：https://www.asml.com
公司地址：De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介：ASML成立于1984年，总部位于荷兰，是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量，而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用，包括英特尔、三星和台积电。