阿斯麦 持续经营每股收益 : $ 19.53 (2024年3月 TTM)
阿斯麦持续经营每股收益(EPS without NRI)的相关内容及计算方法如下:
持续经营每股收益是指扣除与主营业务无关的一次性损益后的净利润,除以 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 从而计算出的每股收益。
截至2024年3月, 阿斯麦 过去一季度 的 持续经营每股收益 为 $ 3.38。 阿斯麦 最近12个月的 持续经营每股收益 为 $ 19.53。
阿斯麦 1年扣非每股收益增长率 % 为 3.90%。 阿斯麦 3年扣非每股收益增长率 % 为 32.90%。 阿斯麦 5年扣非每股收益增长率 % 为 29.00%。 阿斯麦 10年扣非每股收益增长率 % 为 24.00%。
阿斯麦持续经营每股收益或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:
★ ★ ★ ★ ★
在过去十年内, 阿斯麦的3年扣非每股收益增长率 %
最小值:-14.6 中位数:17.5 最大值:52.7
当前值:32.9
★ ★ ★ ★ ★
在半导体内的 484 家公司中
阿斯麦的3年扣非每股收益增长率 % 排名高于同行业 73.35% 的公司。
当前值:32.9 行业中位数:8
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阿斯麦 持续经营每股收益 (ASML 持续经营每股收益) 历史数据
阿斯麦 持续经营每股收益的历史年度,季度/半年度走势如下:
阿斯麦 持续经营每股收益 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
持续经营每股收益 | 3.35 | 3.50 | 3.84 | 5.67 | 6.92 | 6.83 | 10.32 | 16.20 | 14.97 | 21.71 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
阿斯麦 持续经营每股收益 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
持续经营每股收益 | 4.95 | 1.91 | 3.74 | 4.25 | 4.87 | 5.30 | 5.34 | 5.13 | 5.67 | 3.38 |
阿斯麦 持续经营每股收益 (ASML 持续经营每股收益) 解释说明
持续经营每股收益是指扣除与主营业务无关的一次性损益后的净利润,除以 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 从而计算出的每股收益。
稀释每股收益 是华尔街用来确定公司收益能力的最重要的变量。但是投资者需要注意,公司可以通过调整折旧和摊销率或非经常性项目来轻松操纵每股收益。这就是为什么价值大师(GuruFocus)同时还列出持续经营每股收益的原因,该指标能更好地反映了公司的基本绩效。
非营业利润 是指出现在公司财务报表中且不太可能再次发生的条目。它代表涉及不可预测事件的一次性费用,不属于公司正常的日常运营项目。
阿斯麦 持续经营每股收益 (ASML 持续经营每股收益) 注意事项
与每股收益相比,公司的现金流更好地表明了公司的收益能力。如果长期来看公司的每股收益少于每股现金流量,则投资者需要谨慎并找出原因。
阿斯麦 持续经营每股收益 (ASML 持续经营每股收益) 相关词条
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阿斯麦 (ASML) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。