阿斯麦 股票回购收益率 % : 0.26% (今日)
阿斯麦股票回购收益率 %(Buyback Yield %)的相关内容及计算方法如下:
股票回购收益率 % 是净回购股份占公司总市值的百分比,它是衡量股东回报的指标。 截至今日, 阿斯麦 的 股票回购收益率 % 为 0.26%(利用最近12个月的净回购股份和当前 总市值 计算而得)。
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阿斯麦 股票回购收益率 % (ASML 股票回购收益率 %) 历史数据
阿斯麦 股票回购收益率 %的历史年度,季度/半年度走势如下:
阿斯麦 股票回购收益率 % 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股票回购收益率 % | 1.74 | 1.52 | -0.40 | 0.72 | 1.95 | 0.34 | 0.70 | 3.00 | 2.24 | 0.33 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
阿斯麦 股票回购收益率 % 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股票回购收益率 % | 3.66 | 3.33 | 2.59 | 2.53 | 0.62 | 0.60 | 0.71 | 0.16 | -0.04 | 0.40 |
阿斯麦 股票回购收益率 % (ASML 股票回购收益率 %) 计算方法
股票回购收益率 %是衡量股东回报的指标。
截至2023年12月,阿斯麦过去一年的股票回购收益率 %为:
股票回购收益率 % | = | 年度 净回购股份 | / | 年度 总市值 | ||
= | -(年度 回购股票产生的现金流出 | + | 年度 发行股票产生的现金流入 ) | / | 年度 总市值 | |
= | -(-1090 | + | 108) | / | 297789 | |
= | 0.33% |
截至2024年3月,阿斯麦 过去一季度 的股票回购收益率 %为:
股票回购收益率 % | = | 季度 净回购股份 | / | 季度 总市值 | ||||
= | -( 季度 回购股票产生的现金流出 | + | 季度 发行股票产生的现金流入 ) | * | 年化参数 | / | 季度 总市值 | |
= | -(-418 | + | 32) | * | 4 | / | 382938 | |
= | 0.40% |
阿斯麦 股票回购收益率 % (ASML 股票回购收益率 %) 相关词条
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阿斯麦 (ASML) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。