应用材料 股本回报率 ROE %/市净率 : 6.10% (2024年1月 最新)
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应用材料 股本回报率 ROE %/市净率 (AMAT 股本回报率 ROE %/市净率) 历史数据
应用材料 股本回报率 ROE %/市净率的历史年度,季度/半年度走势如下:
应用材料 股本回报率 ROE %/市净率 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-10 | 2015-10 | 2016-10 | 2017-10 | 2018-10 | 2019-10 | 2020-10 | 2021-10 | 2022-10 | 2023-10 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股本回报率 ROE %/市净率 | 4.18 | 6.96 | 5.34 | 6.64 | 8.08 | 5.94 | 7.53 | 5.18 | 8.74 | 7.12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
应用材料 股本回报率 ROE %/市净率 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-10 | 2022-01 | 2022-04 | 2022-07 | 2022-10 | 2023-01 | 2023-04 | 2023-07 | 2023-10 | 2024-01 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股本回报率 ROE %/市净率 | 5.66 | 5.79 | 6.32 | 7.19 | 8.58 | 7.64 | 6.81 | 5.08 | 7.56 | 6.10 |
应用材料 股本回报率 ROE %/市净率 (AMAT 股本回报率 ROE %/市净率) 行业比较
在半导体仪器和材料(三级行业)中,应用材料 股本回报率 ROE %/市净率与其他类似公司的比较如下:
应用材料 股本回报率 ROE %/市净率 (AMAT 股本回报率 ROE %/市净率) 分布区间
在半导体(二级行业)和科技(一级行业)中,应用材料 股本回报率 ROE %/市净率的分布区间如下:
应用材料 股本回报率 ROE %/市净率 (AMAT 股本回报率 ROE %/市净率) 计算方法
截至2023年10月,应用材料过去一年的股本回报率 ROE %/市净率为:
股本回报率 ROE %/市净率 | = | 年度 股本回报率 ROE % | / | 年度 市净率 |
= | 48.04% | / | 6.74 | |
= | 7.12% |
截至2024年1月,应用材料 过去一季度 的股本回报率 ROE %/市净率为:
股本回报率 ROE %/市净率 | = | 季度 股本回报率 ROE % | / | 季度 市净率 |
= | 47.82% | / | 7.83 | |
= | 6.10% |
应用材料 股本回报率 ROE %/市净率 (AMAT 股本回报率 ROE %/市净率) 相关词条
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应用材料 (AMAT) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:https://www.appliedmaterials.com
公司地址:3050 Bowers Avenue, P.O. Box 58039, Santa Clara, CA, USA, 95052-8039
公司简介:应用材料公司是全球最大的半导体制造设备供应商,提供材料工程解决方案,帮助制造世界上几乎所有芯片。除了光刻之外,该公司的系统几乎用于所有主要的工艺步骤。主要工具包括用于化学和物理气相沉积、蚀刻、化学机械抛光、晶圆和光栅检测、临界尺寸测量和缺陷检测扫描电子显微镜的工具。
二级行业:半导体
公司网站:https://www.appliedmaterials.com
公司地址:3050 Bowers Avenue, P.O. Box 58039, Santa Clara, CA, USA, 95052-8039
公司简介:应用材料公司是全球最大的半导体制造设备供应商,提供材料工程解决方案,帮助制造世界上几乎所有芯片。除了光刻之外,该公司的系统几乎用于所有主要的工艺步骤。主要工具包括用于化学和物理气相沉积、蚀刻、化学机械抛光、晶圆和光栅检测、临界尺寸测量和缺陷检测扫描电子显微镜的工具。