应用材料 递延所得税 : $ -27 (2024年1月 TTM)
应用材料递延所得税(Deferred Tax)的相关内容及计算方法如下:
递延所得税是指企业资产和负债的账面(会计)价值与其税额之间的暂时差异导致的未来税项负债或资产。这是由于股东财务会计和税务会计之间存在差异产生的。属于间接法的经营活动现金流量项目。
截至2024年1月, 应用材料 过去一季度 的 递延所得税 为 $ -72。 应用材料 最近12个月的 递延所得税 为 $ -27。
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应用材料 递延所得税 (AMAT 递延所得税) 历史数据
应用材料 递延所得税的历史年度,季度/半年度走势如下:
应用材料 递延所得税 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-10 | 2015-10 | 2016-10 | 2017-10 | 2018-10 | 2019-10 | 2020-10 | 2021-10 | 2022-10 | 2023-10 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
递延所得税 | 58.00 | -134.00 | 21.00 | -12.00 | 71.00 | 49.00 | 80.00 | 80.00 | -223.00 | 24.00 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
应用材料 递延所得税 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-10 | 2022-01 | 2022-04 | 2022-07 | 2022-10 | 2023-01 | 2023-04 | 2023-07 | 2023-10 | 2024-01 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
递延所得税 | 36.00 | 1.00 | -257.00 | 47.00 | -14.00 | -21.00 | -115.00 | -38.00 | 198.00 | -72.00 |
应用材料 递延所得税 (AMAT 递延所得税) 解释说明
经营活动现金流量的列报方法有两种,一种称直接法,另一种称间接法。直接法,是指通过现金流入和支出的主要类别直接反映来自企业经营活动的现金流量的报告方法。采用直接法报告现金流量,可以揭示企业经营活动现金流量的来源和用途,有助于预测企业未来的现金流量。间接法是在企业当期取得的净利润的基础上,通过有关项目的调整,从而确定出经营活动的现金流量。采用间接法报告现金流量,可以揭示净收益与净现金流量的差别,有利于分析收益的质量和企业的营运资金管理状况。
递延所得税是指企业资产和负债的账面(会计)价值与其税额之间的暂时差异导致的未来税项负债或资产。这是由于股东财务会计和税务会计之间存在差异产生的。属于间接法的经营活动现金流量项目。
应用材料 递延所得税 (AMAT 递延所得税) 相关词条
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应用材料 (AMAT) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:https://www.appliedmaterials.com
公司地址:3050 Bowers Avenue, P.O. Box 58039, Santa Clara, CA, USA, 95052-8039
公司简介:应用材料公司是全球最大的半导体制造设备供应商,提供材料工程解决方案,帮助制造世界上几乎所有芯片。除了光刻之外,该公司的系统几乎用于所有主要的工艺步骤。主要工具包括用于化学和物理气相沉积、蚀刻、化学机械抛光、晶圆和光栅检测、临界尺寸测量和缺陷检测扫描电子显微镜的工具。
二级行业:半导体
公司网站:https://www.appliedmaterials.com
公司地址:3050 Bowers Avenue, P.O. Box 58039, Santa Clara, CA, USA, 95052-8039
公司简介:应用材料公司是全球最大的半导体制造设备供应商,提供材料工程解决方案,帮助制造世界上几乎所有芯片。除了光刻之外,该公司的系统几乎用于所有主要的工艺步骤。主要工具包括用于化学和物理气相沉积、蚀刻、化学机械抛光、晶圆和光栅检测、临界尺寸测量和缺陷检测扫描电子显微镜的工具。