应用材料 存货 : $ 5646 (2024年1月 最新)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

应用材料存货(Total Inventories)的相关内容及计算方法如下:

存货是公司短期内所有存货的总和,属于流动资产项目,包括: 原材料 在产品 存货调整 库存商品 ,和 其他存货
截至2024年1月, 应用材料 过去一季度存货 为 $ 5646。 应用材料 从 2023-10 到 2024年1月 的平均 存货 为 $ 5685.50。
本·格雷厄姆(Ben Graham)在计算 净净营运资本 NNWC 时,存货仅被视为账面价值的50%。 截至2024年1月, 应用材料 净净营运资本 NNWC 为 $ -0.33。
存货周转天数 是指企业从取得存货开始,至消耗、销售为止所经历的天数。 截至2024年1月, 应用材料 存货周转天数 为 148.10。
存货周转率 衡量公司一年内库存周转的速度。 截至2024年1月, 应用材料 存货周转率 为 0.62。
存货/收入 衡量了公司管理其库存水平的能力。 它测量公司当前拥有的库存以支持当前的收入的比率。 截至2024年1月, 应用材料 存货/收入 为 0.85。

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应用材料 存货 (AMAT 存货) 历史数据

应用材料 存货的历史年度,季度/半年度走势如下:
应用材料 存货 年度数据
日期 2014-10 2015-10 2016-10 2017-10 2018-10 2019-10 2020-10 2021-10 2022-10 2023-10
存货 1567.00 1833.00 2050.00 2930.00 3721.00 3474.00 3904.00 4309.00 5932.00 5725.00
应用材料 存货 季度数据
日期 2021-10 2022-01 2022-04 2022-07 2022-10 2023-01 2023-04 2023-07 2023-10 2024-01
存货 4309.00 4526.00 5009.00 5506.00 5932.00 6054.00 5940.00 5809.00 5725.00 5646.00
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

应用材料 存货 (AMAT 存货) 解释说明

存货是公司短期内所有存货的总和,属于流动资产项目,包括: 原材料 在产品 存货调整 库存商品 ,和 其他存货
库存控制是业务运营的重要组成部分。如果公司没有足够的库存,则可能无法满足客户要求的交货时间。如果库存过多,则持有库存的成本可能会很高。
1. 本·格雷厄姆(Ben Graham)在计算 净净营运资本 NNWC 时,存货仅被视为账面价值的50%。
截至2024年1月应用材料 过去一季度 净净营运资本 NNWC 为:
净净营运资本 NNWC
= ( 季度 货币资金、现金等价物、及短期证券 + 0.75 * 季度 应收账款 + 0.5 * 季度 存货 - 季度 负债合计
- 季度 优先股 - 季度 少数股东权益 / 季度 期末总股本
= ( 7492 + 0.75 * 4700 + 0.5 * 5646 - 14111
- 0 - 0) / 831
= -0.33
2. 存货周转天数 是指企业从取得存货开始,至消耗、销售为止所经历的天数。
截至2024年1月应用材料 过去一季度 存货周转天数 为:
存货周转天数 = 平均 季度 存货 / 季度 营业成本 * 季度 天数
= 5685.50 / 3503 * 365 / 4
= 148.10
3. 存货周转率 衡量公司一年内库存周转的速度。
截至2024年1月应用材料 过去一季度 存货周转率 为:
存货周转率 = 季度 营业成本 / 平均 季度 存货
= 3503 / 5685.50
= 0.62
4. 存货/收入 衡量了公司管理其库存水平的能力。 它测量公司当前拥有的库存以支持当前的收入的比率。
截至2024年1月应用材料 过去一季度 存货/收入 为:
存货/收入 = 平均 季度 存货 / 季度 营业收入
= 5685.50 / 6707
= 0.85
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

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应用材料 (AMAT) 公司简介

一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:https://www.appliedmaterials.com
公司地址:3050 Bowers Avenue, P.O. Box 58039, Santa Clara, CA, USA, 95052-8039
公司简介:应用材料公司是全球最大的半导体制造设备供应商,提供材料工程解决方案,帮助制造世界上几乎所有芯片。除了光刻之外,该公司的系统几乎用于所有主要的工艺步骤。主要工具包括用于化学和物理气相沉积、蚀刻、化学机械抛光、晶圆和光栅检测、临界尺寸测量和缺陷检测扫描电子显微镜的工具。