芯源微 斯隆比率 % : 13.91% (2024年3月 最新)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

芯源微斯隆比率 %(Sloan Ratio %)的相关内容及计算方法如下:

密歇根大学的理查德·斯隆(Richard Sloan)首先记录了所谓的“应计异象”。他在1996年的论文中发现,应计项目较小或为负数的公司,其股票表现大大超过(+ 10%)应计项目较大的公司。
危险信号
盈利能力: 斯隆比率 % 盈余持续性差
芯源微的斯隆比率 %=30.64,当其高于25%或者低于-25%的时候,说明公司盈余包含了很多不产生现金的应计项目,盈余持续性差。
截至2024年3月, 芯源微 过去一季度斯隆比率 % 为 13.91%。 说明该公司不产生现金的应计项目在增加,需要警惕, 详情请见“解释说明”。

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芯源微 斯隆比率 % (688037 斯隆比率 %) 历史数据

芯源微 斯隆比率 %的历史年度,季度/半年度走势如下:
芯源微 斯隆比率 % 年度数据
日期 2016-12 2017-12 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12 2023-12
斯隆比率 % -19.90 2.61 13.48 29.93 -2.23 24.80 7.25 30.64
芯源微 斯隆比率 % 季度数据
日期 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12 2024-03
斯隆比率 % 24.80 16.20 24.40 30.59 7.25 29.51 21.26 17.99 30.64 13.91
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

半导体仪器和材料(三级行业)中,芯源微 斯隆比率 %与其他类似公司的比较如下:
* 选自同一行业,市值最接近的公司;x轴代表市值,y轴代表斯隆比率 %数值;点越大,公司市值越大。

芯源微 斯隆比率 % (688037 斯隆比率 %) 分布区间

半导体(二级行业)和科技(一级行业)中,芯源微 斯隆比率 %的分布区间如下:
* x轴代表斯隆比率 %数值,y轴代表落入该斯隆比率 %区间的公司数量;红色柱状图代表芯源微的斯隆比率 %所在的区间。

芯源微 斯隆比率 % (688037 斯隆比率 %) 计算方法

收入包含许多非现金收入,称为应计费用。斯隆比率 %是一种识别相对于现金流量而言非现金或应计项目较低的公司的方法。
截至2023年12月芯源微过去一年的斯隆比率 %为:
斯隆比率 % = (年度 归属于母公司股东的净利润 - 年度 经营活动产生的现金流量净额 - 年度 投资活动产生的现金流量净额 / 年度 资产总计
= (251 - -562 - -504) / 4302
= 30.64%
截至2024年3月芯源微 过去一季度斯隆比率 %为:
斯隆比率 % = (最近12个月 归属于母公司股东的净利润 - 最近12个月 经营活动产生的现金流量净额 - 最近12个月 投资活动产生的现金流量净额 / 季度 资产总计
= (201 - -365 - -37) / 4342
= 13.91%
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

芯源微 斯隆比率 % (688037 斯隆比率 %) 解释说明

理查德·斯隆(Richard Sloan)曾是密歇根大学的研究员,他在1996年的论文中发现,应计项目较小或为负的公司的股票表现大大超过(+ 10%)了应计项目较大的公司。实际上,在1962年至2001年的40年期间,买入应计项目最低的公司并卖空应计项目最高的公司,其平均年复合收益率为18%,是同期标准普尔500指数(7.4%)的年收益的两倍以上。
根据如何利用斯隆比率 %来跑赢大市:
a. 如果斯隆比率 %的绝对值小于10% --> 说明该公司处于安全区域,应计项目没有什么值得关注的。
b. 如果斯隆比率 %的绝对值在10%到25%之间 --> 说明该公司不产生现金的应计项目在增加,需要警惕。
c. 如果斯隆比率 %的绝对值高于25% --> 说明公司盈余包含了很多不产生现金的应计项目,盈余持续性差。
截至2024年3月, 芯源微 过去一季度斯隆比率 % 为 13.91%。 说明该公司不产生现金的应计项目在增加,需要警惕。

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芯源微 (688037) 公司简介

一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:www.kingsemi.com
公司地址:辽宁省沈阳市浑南区彩云路1号
公司简介:公司是国家高新技术企业,主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售,产品包括光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机、喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机、去胶机、湿法刻蚀机),产品可用于6英寸及以下单晶圆处理(如LED芯片制造环节)及8/12英寸单晶圆处理(如集成电路制造前道晶圆加工及后道先进封装环节)。作为与光刻机配合进行作业的关键处理设备,公司生产的涂胶/显影机成功打破国外厂商垄断并填补国内空白,其中在LED芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节,作为国内厂商主流机型已成功实现进口替代;通过多年的技术研发、实践应用积累以及持续承担国家02重大专项,公司成功突破了应用于集成电路制造前道晶圆加工环节的涂胶显影设备技术,成型产品目前正在长江存储、上海华力等前道芯片制造厂商进行工艺验证。成立以来,公司先后荣获“国家级知识产权优势企业”、“国内先进封装领域最佳设备供应商”、“2018年中国半导体设备五强企业”等多项殊荣,公司产品先后获得“国家战略性创新产品”、“国家重点新产品”等多项荣誉。