CVD设备 流动资产合计 : $ 22.84 (2023年12月 最新)
CVD设备流动资产合计(Total Current Assets)的相关内容及计算方法如下:
流动资产合计是指预计在一个正常营业周期内或一个会计年度内变现、出售或耗用的资产和现金及现金等价物。
价值大师(GuruFocus)对于不同类型的公司使用不同类型的标准化财务报表格式。对于非金融类来说,流动资产合计内包含了 货币资金、现金等价物、及短期证券 , 应收账款总额 , 存货 ,和 其他流动资产 。
截至2023年12月, CVD设备 过去一季度 的 流动资产合计 为 $ 22.84。
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CVD设备 流动资产合计 (CVV 流动资产合计) 历史数据
CVD设备 流动资产合计的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 流动资产合计 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
流动资产合计 | 29.05 | 24.55 | 28.40 | 27.80 | 19.45 | 14.17 | 11.79 | 23.07 | 23.66 | 22.84 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
CVD设备 流动资产合计 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-09 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
流动资产合计 | 23.36 | 23.07 | 19.61 | 21.57 | 20.57 | 23.66 | 20.55 | 24.36 | 24.90 | 22.84 |
CVD设备 流动资产合计 (CVV 流动资产合计) 计算方法
流动资产合计是指预计在一个正常营业周期内或一个会计年度内变现、出售或耗用的资产和现金及现金等价物。
价值大师(GuruFocus)对于不同类型的公司使用不同类型的标准化财务报表格式。对于非金融类来说,流动资产合计内包含了 货币资金、现金等价物、及短期证券 , 应收账款总额 , 存货 ,和 其他流动资产 。
截至2023年12月,CVD设备过去一年的流动资产合计为:
流动资产合计 | = | 年度 货币资金、现金等价物、及短期证券 | + | 年度 应收账款总额 | + | 年度 存货 | + | 年度 其他流动资产 |
= | 14.03 | + | 3.51 | + | 4.45 | + | 0.85 | |
= | 22.84 |
截至2023年12月,CVD设备 过去一季度 的流动资产合计为:
流动资产合计 | = | 季度 货币资金、现金等价物、及短期证券 | + | 季度 应收账款总额 | + | 季度 存货 | + | 季度 其他流动资产 |
= | 14.03 | + | 3.51 | + | 4.45 | + | 0.85 | |
= | 22.84 |
CVD设备 流动资产合计 (CVV 流动资产合计) 解释说明
流动资产合计通过 流动比率 和营运资金与 流动负债合计 相关联。1) 流动比率 等于流动资产合计除以 流动负债合计 。它经常被用作衡量公司流动性,履行短期债务能力的指标。2)营运资金等于流动资产合计减去 流动负债合计 。
CVD设备 流动资产合计 (CVV 流动资产合计) 相关词条
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CVD设备 (CVV) 公司简介
一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。