CVD设备 现金及现金等价物净额 : $ -0.34 (2023年12月 TTM)
CVD设备现金及现金等价物净额(Net Change in Cash)的相关内容及计算方法如下:
截至2023年12月, CVD设备 过去一季度 的 现金及现金等价物净额 为 $ -0.26。 CVD设备 最近12个月的 现金及现金等价物净额 为 $ -0.34。
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CVD设备 现金及现金等价物净额 (CVV 现金及现金等价物净额) 历史数据
CVD设备 现金及现金等价物净额的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 现金及现金等价物净额 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
现金及现金等价物净额 | 0.72 | 1.11 | 8.60 | -7.47 | -2.77 | -2.78 | -0.97 | 8.95 | -2.29 | -0.34 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
CVD设备 现金及现金等价物净额 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-09 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
现金及现金等价物净额 | 12.06 | -0.80 | -3.38 | -1.11 | -0.28 | 2.50 | -3.36 | 2.03 | 1.25 | -0.26 |
CVD设备 现金及现金等价物净额 (CVV 现金及现金等价物净额) 计算方法
截至2023年12月,CVD设备过去一年的现金及现金等价物净额为:
现金及现金等价物净额 | = | 年度 经营活动产生的现金流量净额 | + | 年度 投资活动产生的现金流量净额 | + | 年度 筹资活动产生的现金流量净额 | + | 年度 汇率变动对现金及现金等价物的影响 |
= | -0.21 | + | -0.13 | + | 0.00 | + | 0.00 | |
= | -0.34 |
截至2023年12月,CVD设备 过去一季度 的现金及现金等价物净额为:
现金及现金等价物净额 | = | 季度 经营活动产生的现金流量净额 | + | 季度 投资活动产生的现金流量净额 | + | 季度 筹资活动产生的现金流量净额 | + | 季度 汇率变动对现金及现金等价物的影响 |
= | -0.13 | + | -0.11 | + | -0.02 | + | 0.00 | |
= | -0.26 |
CVD设备 现金及现金等价物净额 (CVV 现金及现金等价物净额) 相关词条
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CVD设备 (CVV) 公司简介
一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。