CVD设备 利息保障倍数 : 0 (2023年12月 最新)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

CVD设备利息保障倍数(Interest Coverage)的相关内容及计算方法如下:

利息保障倍数用以衡量偿付借款利息的能力,它是衡量企业支付负债利息能力的指标。 由 营业利润 除以该公司的 利息支出 而得。截至2023年12月, CVD设备 过去一季度 营业利润 为 $ -2.47 , 过去一季度 利息支出 为 $ -0.01,所以 CVD设备 过去一季度利息保障倍数 为 0。
利息保障倍数越高,公司的财务实力越强。

CVD设备利息保障倍数或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:

在过去十年内, CVD设备利息保障倍数
最小值:0  中位数:60.73  最大值:68.1
当前值:0
CVD设备利息保障倍数没有参与排名。
注意:如果 利息支出 利息收入 都没有数据(数值为0),但 净利息收入 数值为负,则价值大师网用 净利息收入 代替 利息支出 来计算利息保障倍数

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CVD设备 利息保障倍数 (CVV 利息保障倍数) 历史数据

CVD设备 利息保障倍数的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 利息保障倍数 年度数据
日期 2014-12 2015-12 2016-12 2017-12 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12 2023-12
利息保障倍数 10.65 60.73 - 68.1 - - - - - -
CVD设备 利息保障倍数 季度数据
日期 2021-09 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12
利息保障倍数 - - - 没有负债 N/A - - - - -
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

特种工业机械(三级行业)中,CVD设备 利息保障倍数与其他类似公司的比较如下:
* 选自同一行业,市值最接近的公司;x轴代表市值,y轴代表利息保障倍数数值;点越大,公司市值越大。

CVD设备 利息保障倍数 (CVV 利息保障倍数) 分布区间

工业制品(二级行业)和工业(一级行业)中,CVD设备 利息保障倍数的分布区间如下:
* x轴代表利息保障倍数数值,y轴代表落入该利息保障倍数区间的公司数量;红色柱状图代表CVD设备的利息保障倍数所在的区间。

CVD设备 利息保障倍数 (CVV 利息保障倍数) 计算方法

利息保障倍数用以衡量偿付借款利息的能力,它是衡量企业支付负债利息能力的指标。 由 营业利润 除以该公司的 利息支出 而得。
情况1:如果 利息支出 为负数, 营业利润 为正数,则
利息保障倍数 = -1 * 营业利润 / 利息支出
情况2:如果 利息支出 为负数, 营业利润 为负数,则
该公司没有足够的收益来偿还其 利息支出
情况3:如果 利息支出 为0, 长期借款和资本化租赁债务 为0,则
该公司无负债。
如果以上情况都不满足,则结果无意义。
注意:如果 利息支出 利息收入 都没有数据(数值为0),但 净利息收入 数值为负,则价值大师网用 净利息收入 代替 利息支出 来计算利息保障倍数
截至2023年12月CVD设备 年度 营业利润 为 $ -4.61 , 年度 利息支出 为 $ -0.02, 年度 长期借款和资本化租赁债务 为 $ 0.27, 所以CVD设备过去一年的利息保障倍数为:
CVD设备没有足够的收益来偿还其 利息支出
截至2023年12月CVD设备 过去一季度 营业利润 为 $ -2.47 , 过去一季度 利息支出 为 $ -0.01, 过去一季度 长期借款和资本化租赁债务 为 $ 0.27, 所以CVD设备 过去一季度利息保障倍数为:
CVD设备没有足够的收益来偿还其 利息支出
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。
利息保障倍数越高,公司的财务实力越强。

CVD设备 利息保障倍数 (CVV 利息保障倍数) 解释说明

本杰明·格雷厄姆(Ben Graham)要求他所投资的公司的利息保障倍数的最低值为5。如果利息保障倍数低于2,则公司的债务负担重。 任何业务的放缓或衰退都可能会使公司陷入无法偿还债务利息的困境。
利息保障倍数是价值大师网(GuruFocus)公司的 的一个重要因素。

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CVD设备 (CVV) 公司简介

一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。