CVD设备 市净率 : 1.16 (今日)
CVD设备市净率(PB Ratio)的相关内容及计算方法如下:
市净率 由 当前股价 除以该公司的 每股账面价值 而得。截至今日, CVD设备 的 当前股价 为 $4.45, 过去一季度 每股账面价值 为 $ 3.84,所以 CVD设备 今日的 市净率 为 1.16。
CVD设备市净率或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:
★ ★ ★ ★ ★
在过去十年内, CVD设备的市净率
最小值:0.49 中位数:1.49 最大值:3.47
当前值:1.16
★ ★ ★ ★ ★
在工业制品内的 1578 家公司中
CVD设备的市净率 排名高于同行业 84.85% 的公司。
当前值:1.16 行业中位数:2.1
安全信号
市场估值: 市净率 接近1年低点
CVD设备 1年每股账面价值增长率 % 为 -11.70%。 CVD设备 3年每股账面价值增长率 % 为 2.10%。 CVD设备 5年每股账面价值增长率 % 为 -4.70%。 CVD设备 10年每股账面价值增长率 % 为 -3.20%。
在过去十年内, CVD设备的 3年每股账面价值增长率 % 最大值为 17.00%, 最小值为 -16.90%, 中位数为 4.50%。
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CVD设备 市净率 (CVV 市净率) 历史数据
CVD设备 市净率的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 市净率 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
市净率 | 3.03 | 1.88 | 1.61 | 1.85 | 0.65 | 0.71 | 1.00 | 0.95 | 1.27 | 1.15 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
CVD设备 市净率 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-09 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
市净率 | 1.01 | 0.95 | 1.07 | 0.97 | 1.27 | 1.27 | 3.05 | 1.74 | 1.61 | 1.15 |
CVD设备 市净率 (CVV 市净率) 行业比较
在特种工业机械(三级行业)中,CVD设备 市净率与其他类似公司的比较如下:
CVD设备 市净率 (CVV 市净率) 分布区间
在工业制品(二级行业)和工业(一级行业)中,CVD设备 市净率的分布区间如下:
CVD设备 市净率 (CVV 市净率) 计算方法
市净率是由当前股价除以 每股账面价值 而得。
截至今日,CVD设备的市净率为:
市净率 | = | 今日 当前股价 | / | 过去一季度 每股账面价值 |
= | $4.45 | / | 3.84 | |
= | 1.16 |
CVD设备 市净率 (CVV 市净率) 解释说明
市净率最适合衡量主要从资产中获利的企业,例如银行和保险公司。
CVD设备 市净率 (CVV 市净率) 注意事项
市净率不适用于资产非常低的公司,例如软件公司或保险公司。 有些公司甚至拥有负资产,也不能用市净率来衡量。
CVD设备 市净率 (CVV 市净率) 相关词条
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CVD设备 (CVV) 公司简介
一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。