CVD设备 流动递延收益负债 : $ 4.91 (2023年12月 最新)
CVD设备流动递延收益负债(Current Deferred Revenue)的相关内容及计算方法如下:
流动递延收益负债指短期尚待确认的收入或收益,也可以说是暂时未确认的收益,它是权责发生制在收益确认上的运用,相当于预收账款。
截至2023年12月, CVD设备 过去一季度 的 流动递延收益负债 为 $ 4.91。
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CVD设备 流动递延收益负债 (CVV 流动递延收益负债) 历史数据
CVD设备 流动递延收益负债的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 流动递延收益负债 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
流动递延收益负债 | 1.82 | 0.31 | 5.34 | 0.76 | 1.00 | 2.27 | 0.79 | 1.65 | 4.04 | 4.91 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
CVD设备 流动递延收益负债 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-09 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
流动递延收益负债 | 1.50 | 1.65 | 0.72 | 3.30 | 1.48 | 4.04 | 1.26 | 4.70 | 4.86 | 4.91 |
CVD设备 流动递延收益负债 (CVV 流动递延收益负债) 解释说明
流动递延收益负债指短期尚待确认的收入或收益,也可以说是暂时未确认的收益,它是权责发生制在收益确认上的运用,相当于预收账款。
CVD设备 流动递延收益负债 (CVV 流动递延收益负债) 相关词条
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CVD设备 (CVV) 公司简介
一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。