CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率 : -28.97% (2023年12月 最新)
CVD设备股本回报率 ROE %/市净率(ROE % Adjusted to Book Value)的相关内容及计算方法如下:
股本回报率 ROE %/市净率 由 股本回报率 ROE % 除以该公司的 市净率 而得。截至2023年12月, CVD设备 过去一季度 股本回报率 ROE % 为 -33.43%, 过去一季度 市净率 为 1.15,所以 CVD设备 过去一季度 的 股本回报率 ROE %/市净率 为 -28.97%。
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CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率 (CVV 股本回报率 ROE %/市净率) 历史数据
CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股本回报率 ROE %/市净率 | -2.70 | 5.45 | -0.27 | 7.60 | -20.97 | -27.07 | -22.36 | 18.72 | -0.60 | -13.03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-09 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股本回报率 ROE %/市净率 | 86.71 | -16.84 | -13.02 | -12.46 | 0.72 | 17.12 | -0.18 | -8.78 | -6.58 | -28.97 |
CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率 (CVV 股本回报率 ROE %/市净率) 行业比较
在特种工业机械(三级行业)中,CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率与其他类似公司的比较如下:
CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率 (CVV 股本回报率 ROE %/市净率) 分布区间
在工业制品(二级行业)和工业(一级行业)中,CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率的分布区间如下:
CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率 (CVV 股本回报率 ROE %/市净率) 计算方法
截至2023年12月,CVD设备过去一年的股本回报率 ROE %/市净率为:
股本回报率 ROE %/市净率 | = | 年度 股本回报率 ROE % | / | 年度 市净率 |
= | -15.04% | / | 1.15 | |
= | -13.03% |
截至2023年12月,CVD设备 过去一季度 的股本回报率 ROE %/市净率为:
股本回报率 ROE %/市净率 | = | 季度 股本回报率 ROE % | / | 季度 市净率 |
= | -33.43% | / | 1.15 | |
= | -28.97% |
CVD设备 股本回报率 ROE %/市净率 (CVV 股本回报率 ROE %/市净率) 相关词条
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CVD设备 (CVV) 公司简介
一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。