CVD设备 研发费用 : $ 2.60 (2023年12月 TTM)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

CVD设备研发费用(Research & Development)的相关内容及计算方法如下:

研发费用是公司在研发上花费的费用。
截至2023年12月, CVD设备 过去一季度研发费用 为 $ 0.73。 CVD设备 最近12个月的 研发费用 为 $ 2.60。

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CVD设备 研发费用 (CVV 研发费用) 历史数据

CVD设备 研发费用的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 研发费用 年度数据
日期 2014-12 2015-12 2016-12 2017-12 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12 2023-12
研发费用 0.88 0.61 0.43 0.44 0.61 0.60 0.37 1.78 1.91 2.60
CVD设备 研发费用 季度数据
日期 2021-09 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12
研发费用 0.45 0.60 0.31 0.57 0.52 0.51 0.60 0.56 0.70 0.73
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

CVD设备 研发费用 (CVV 研发费用) 解释说明

研发费用是公司在研发上花费的费用。如果一个公司的竞争优势是通过专利或技术优势创造的,那么这个优势一般会在将在某个时候消失。
高额的研发费用通常意味着高的 销售及行政开支

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CVD设备 (CVV) 公司简介

一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。