CVD设备 存货/收入 : 1.06 (2023年12月 最新)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

CVD设备存货/收入(Inventory-to-Revenue)的相关内容及计算方法如下:

存货/收入衡量了公司管理其库存水平的能力。它测量公司当前拥有的库存以支持当前的收入的比率。 截至2023年12月, CVD设备 过去一季度存货/收入 为 1.06。
存货周转天数 是指企业从取得存货开始,至消耗、销售为止所经历的天数。周转天数越少,存货管理的效率越高。 截至2023年12月, CVD设备 过去一季度 存货周转天数 为 89.47。
存货周转率 衡量公司一年内库存周转的速度。 截至2023年12月, CVD设备 过去一季度 存货周转率 为 1.02。

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CVD设备 存货/收入 (CVV 存货/收入) 历史数据

CVD设备 存货/收入的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 存货/收入 年度数据
日期 2014-12 2015-12 2016-12 2017-12 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12 2023-12
存货/收入 0.17 0.10 0.15 0.08 0.10 0.09 0.08 0.07 0.07 0.15
CVD设备 存货/收入 季度数据
日期 2021-09 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12
存货/收入 0.32 0.28 0.32 0.33 0.26 0.32 0.31 0.69 0.68 1.06
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

特种工业机械(三级行业)中,CVD设备 存货/收入与其他类似公司的比较如下:
* 选自同一行业,市值最接近的公司;x轴代表市值,y轴代表存货/收入数值;点越大,公司市值越大。

CVD设备 存货/收入 (CVV 存货/收入) 分布区间

工业制品(二级行业)和工业(一级行业)中,CVD设备 存货/收入的分布区间如下:
* x轴代表存货/收入数值,y轴代表落入该存货/收入区间的公司数量;红色柱状图代表CVD设备的存货/收入所在的区间。

CVD设备 存货/收入 (CVV 存货/收入) 计算方法

存货/收入衡量了公司管理其库存水平的能力。它测量公司当前拥有的库存以支持当前的收入的比率。
截至2023年12月CVD设备过去一年的存货/收入为:
存货/收入
= 平均 年度 存货 / 年度 营业收入
= (期初 年度 存货 + 期末 年度 存货 / 期数 / 年度 营业收入
= (2.54 + 4.45) / 2 / 24.11
= 0.15
截至2023年12月CVD设备 过去一季度存货/收入为:
存货/收入
= 平均 季度 存货 / 季度 营业收入
= (期初 季度 存货 + 期末 季度 存货 / 期数 / 季度 营业收入
= (4.29 + 4.45) / 2 / 4.46
= 1.06
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

CVD设备 存货/收入 (CVV 存货/收入) 解释说明

如果存货/收入比率季度值相比上一季度有所增加,则表明发生了以下情况之一:
a.存货投资的增长比收入增长快
b.收入下降
无论是由哪种情况引起的问题,存货/收入比率的增加都可能预示着即将到来的现金流问题。
同样,如果存货/收入比率季度值相比上一季度有所下降,则表明发生了以下情况之一:
a.库存投资相对于收入在减少.
b.收入在增加.
无论是由哪种情况引起存货/收入比率的下降,都表明企业的存货和现金流活动受到了有效管理。
1. 存货周转天数 是指企业从取得存货开始,至消耗、销售为止所经历的天数。
截至2023年12月CVD设备 过去一季度 存货周转天数 为:
存货周转天数 = 平均 季度 存货 / 季度 营业成本 * 季度 天数
= 4.37 / 4.46 * 365 / 4
= 89.47
2. 存货周转率 衡量公司一年内库存周转的速度。
截至2023年12月CVD设备 过去一季度 存货周转率 为:
存货周转率 = 季度 营业成本 / 平均 季度 存货
= 4.46 / 4.37
= 1.02
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

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CVD设备 (CVV) 公司简介

一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。