CVD设备 3年每股股利增长率 % : 0.00% (今日)
CVD设备3年每股股利增长率 %(3-Year Dividend Growth Rate (Per Share))的相关内容及计算方法如下:
3年每股股利增长率 %是公司提高股息的平均年增长率。根据最近四年的年度数据,以指数复合计算得出。 截至今日, CVD设备 的 3年每股股利增长率 % 为 0.00%。
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在过去十年内, CVD设备的3年每股股利增长率 %
最小值:0 中位数:0 最大值:0
当前值:0
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CVD设备的3年每股股利增长率 %没有参与排名。
CVD设备 3年每股股利增长率 % (CVV 3年每股股利增长率 %) 行业比较
在特种工业机械(三级行业)中,CVD设备 3年每股股利增长率 %与其他类似公司的比较如下:
CVD设备 3年每股股利增长率 % (CVV 3年每股股利增长率 %) 分布区间
在工业制品(二级行业)和工业(一级行业)中,CVD设备 3年每股股利增长率 %的分布区间如下:
CVD设备 3年每股股利增长率 % (CVV 3年每股股利增长率 %) 计算方法
3年每股股利增长率 %是公司提高股息的平均年增长率。根据最近四年的年度数据,以指数复合计算得出。
CVD设备 3年每股股利增长率 % (CVV 3年每股股利增长率 %) 解释说明
1. 股息支付率 又称“股利分配率”或“股利发放率”,是向股东分派的股息占公司盈利的比率。它反映公司的股利分配政策和股利支付能力。
2. 股息率 % 是过去12个月的股息与当前股价之间的比率。在投资实践中,股息率是衡量企业是否具有投资价值的重要标尺之一。
CVD设备 3年每股股利增长率 % (CVV 3年每股股利增长率 %) 相关词条
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CVD设备 (CVV) 公司简介
一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。