CVD设备 税息折旧及摊销前利润 : $ -3.38 (2023年12月 TTM)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

CVD设备税息折旧及摊销前利润(EBITDA)的相关内容及计算方法如下:

税息折旧及摊销前利润又叫未计利息、税项、折旧及摊销前的利润,是衡量公司盈利的重要指标。
截至2023年12月, CVD设备 过去一季度税息折旧及摊销前利润 为 $ -2.05。 CVD设备 最近12个月的 税息折旧及摊销前利润 为 $ -3.38。
CVD设备 1年总税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 -615.90%。 CVD设备 3年总税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 16.30%。
截至2023年12月, CVD设备 过去一季度 每股税息折旧及摊销前利润 为 $ -0.30。 CVD设备 最近12个月的 每股税息折旧及摊销前利润 为 $ -0.50。
CVD设备 1年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 -613.40%。 CVD设备 3年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 16.90%。

CVD设备税息折旧及摊销前利润或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:

在过去十年内, CVD设备3年每股税息折旧及摊销前利润增长率 %
最小值:-49.4  中位数:9.9  最大值:183.7
当前值:16.9
工业制品内的 1349 家公司中
CVD设备3年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 排名高于同行业 67.46% 的公司。
当前值:16.9  行业中位数:7.2

点击上方“历史数据”快速查看CVD设备 税息折旧及摊销前利润的历史走势;
点击上方“解释说明”快速查看关于CVD设备 税息折旧及摊销前利润的详细说明;
点击上方“相关词条”快速查看与税息折旧及摊销前利润相关的其他指标。


CVD设备 税息折旧及摊销前利润 (CVV 税息折旧及摊销前利润) 历史数据

CVD设备 税息折旧及摊销前利润的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 税息折旧及摊销前利润 年度数据
日期 2014-12 2015-12 2016-12 2017-12 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12 2023-12
税息折旧及摊销前利润 -2.80 5.44 0.24 8.17 -3.95 -3.39 -5.77 5.78 0.66 -3.38
CVD设备 税息折旧及摊销前利润 季度数据
日期 2021-09 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12
税息折旧及摊销前利润 6.19 -1.02 -0.74 -0.69 0.20 1.88 0.13 -0.87 -0.59 -2.05
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

CVD设备 税息折旧及摊销前利润 (CVV 税息折旧及摊销前利润) 解释说明

税息折旧及摊销前利润减去 折旧、损耗和摊销 等于 息税前利润 息税前利润 是扣除利息、所得税之前的利润。
税息折旧及摊销前利润的使用必须要有一个前提假设。假设当收购一个企业时,被收购企业肯定是把投资活动控制到最低的。所以我们分析的时候只看经营性活动。而经营性活动看的时候,EBITDA是很有意义的,意义在于:当营运资金净需求不变的情况下,经营性现金净流入也就等于税息折旧及摊销前利润。而企业也就可以利用这个钱(约等于税息折旧及摊销前利润)来进行偿付利息了。

CVD设备 税息折旧及摊销前利润 (CVV 税息折旧及摊销前利润) 注意事项

尽管 折旧、损耗和摊销 不是现金成本,但它是实际业务成本,因为公司必须在购买固定资产时支付固定资产的费用。沃伦·巴菲特(Warren Buffett)和查理·芒格(Charlie Munger)都不算喜欢税息折旧及摊销前利润这个指标,因为该指标中 折旧、损耗和摊销 不计为费用。
税息折旧及摊销前利润 营业收入 的比率是比较公司之间的运营效率的一个很好的指标,因为税息折旧及摊销前利润不太容易受到公司会计选择的影响。因此,税息折旧及摊销前利润被用于对公司的可预测性进行排名。有时,股价与税息折旧及摊销前利润的比率也用于估值。

感谢查看价值大师中文站为您提供的CVD设备税息折旧及摊销前利润的详细介绍,请点击以下链接查看与CVD设备税息折旧及摊销前利润相关的其他词条:


CVD设备 (CVV) 公司简介

一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。