CVD设备 股价/自由现金流 : 负值无意义 (今日)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

CVD设备股价/自由现金流(Price-to-Free-Cash-Flow)的相关内容及计算方法如下:

股价/自由现金流 由 当前股价 除以该公司 最近12个月 的 每股自由现金流 而得。截至今日, CVD设备 的 当前股价 为 $4.47, 最近12个月 每股自由现金流 为 $ -0.09,所以 CVD设备 今日的 股价/自由现金流 为 负值无意义。

CVD设备股价/自由现金流或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:

在过去十年内, CVD设备股价/自由现金流
最小值:6.48  中位数:24.27  最大值:109.87
当前值:0
CVD设备股价/自由现金流没有参与排名。
截至2023年12月, CVD设备 过去一季度 每股自由现金流 为 $ -0.04, CVD设备 最近12个月 每股自由现金流 为 $ -0.09。
CVD设备 3年每股自由现金流增长率 % 为 39.10%。 CVD设备 5年每股自由现金流增长率 % 为 24.60%。
在过去十年内, CVD设备的 3年每股自由现金流增长率 % 最大值为 46.80%, 最小值为 -115.30%, 中位数为 -18.70%。

点击上方“历史数据”快速查看CVD设备 股价/自由现金流的历史走势;
点击上方“解释说明”快速查看关于CVD设备 股价/自由现金流的详细说明;
点击上方“相关词条”快速查看与股价/自由现金流相关的其他指标。


CVD设备 股价/自由现金流 (CVV 股价/自由现金流) 历史数据

CVD设备 股价/自由现金流的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 股价/自由现金流 年度数据
日期 2014-12 2015-12 2016-12 2017-12 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12 2023-12
股价/自由现金流 95.30 42.53 6.24 - - - - - - -
CVD设备 股价/自由现金流 季度数据
日期 2021-09 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12
股价/自由现金流 - - - - - - - 43.10 21.31 -
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

特种工业机械(三级行业)中,CVD设备 股价/自由现金流与其他类似公司的比较如下:
* 选自同一行业,市值最接近的公司;x轴代表市值,y轴代表股价/自由现金流数值;点越大,公司市值越大。

CVD设备 股价/自由现金流 (CVV 股价/自由现金流) 分布区间

工业制品(二级行业)和工业(一级行业)中,CVD设备 股价/自由现金流的分布区间如下:
* x轴代表股价/自由现金流数值,y轴代表落入该股价/自由现金流区间的公司数量;红色柱状图代表CVD设备的股价/自由现金流所在的区间。

CVD设备 股价/自由现金流 (CVV 股价/自由现金流) 计算方法

股价/自由现金流是由当前股价除以最近12个月的 每股自由现金流 而得。
截至今日CVD设备股价/自由现金流为:
股价/自由现金流 = 今日 当前股价 / 最近12个月 每股自由现金流
= $4.47 / -0.09
= 负值无意义
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

CVD设备 股价/自由现金流 (CVV 股价/自由现金流) 解释说明

价值投资者认为 自由现金流 比收益更为重要。 原因是,从原则上讲,只有那些能从业务中获取的净现金是归属于股东的。这种 自由现金流 可用于发展业务,减少债务或以股息或股票回购的形式发放给股东。
在现金流折现模型(DCF)计算中, 自由现金流 用于确定公司的内在价值。

CVD设备 股价/自由现金流 (CVV 股价/自由现金流) 注意事项

在实际经营中, 自由现金流 会受到应收账款、应付账款、管理层对扩张的决定等变化的影响。因此,投资者应从更长远的角度看待自由现金流量。自由现金流的长期平均值是衡量真实自由现金流的更可靠的指标。

感谢查看价值大师中文站为您提供的CVD设备股价/自由现金流的详细介绍,请点击以下链接查看与CVD设备股价/自由现金流相关的其他词条:


CVD设备 (CVV) 公司简介

一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。