CVD设备 市盈增长比 : 负值无意义 (今日)
CVD设备市盈增长比(PEG Ratio)的相关内容及计算方法如下:
市盈增长比 由市盈率除以增长率而得。请注意,对于非银行类公司,价值大师网使用 持续经营市盈率 除以该公司的 5年每股税息折旧及摊销前利润增长率 %来计算市盈增长比。对于银行类公司,则使用5年每股账面价值增长率 %作为分母来计算。 截至今日, CVD设备 的 持续经营市盈率 为 亏损, 5年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 0.00%,所以 CVD设备 今日的 市盈增长比 为 负值无意义。
CVD设备市盈增长比或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:
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在过去十年内, CVD设备的市盈增长比
最小值:2.04 中位数:2.19 最大值:2.22
当前值:0
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CVD设备的市盈增长比没有参与排名。
彼得·林奇(Peter Lynch)认为,当公司的市盈率和其增长率相等时,该公司的估值在合理范围内。
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CVD设备 市盈增长比 (CVV 市盈增长比) 历史数据
CVD设备 市盈增长比的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 市盈增长比 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
市盈增长比 | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
CVD设备 市盈增长比 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-09 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
市盈增长比 | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - |
CVD设备 市盈增长比 (CVV 市盈增长比) 行业比较
在特种工业机械(三级行业)中,CVD设备 市盈增长比与其他类似公司的比较如下:
CVD设备 市盈增长比 (CVV 市盈增长比) 分布区间
在工业制品(二级行业)和工业(一级行业)中,CVD设备 市盈增长比的分布区间如下:
CVD设备 市盈增长比 (CVV 市盈增长比) 计算方法
市盈增长比 由市盈率除以增长率而得。请注意,对于非银行类公司,价值大师网使用 持续经营市盈率 除以该公司的 5年每股税息折旧及摊销前利润增长率 %来计算市盈增长比。对于银行类公司,则使用5年每股账面价值增长率 %作为分母来计算。
截至今日,CVD设备的市盈增长比为:
市盈增长比 | = | 今日 持续经营市盈率 | / | 今日 5年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % |
= | 亏损 | / | 0 | |
= | 负值无意义 |
CVD设备 市盈增长比 (CVV 市盈增长比) 解释说明
为了比较具有不同增长率的股票,彼得·林奇(Peter Lynch)引入了市盈增长比的概念。他定义市盈增长比为市盈率除以增长率。他认为当公司的市盈率和增长率相等时,该公司的估值在合理范围内。但他也表示,相比一家年增长率为10%,市盈率为10的公司,他更愿意收购一家年增长率为20%,市盈率为20的公司。
CVD设备 市盈增长比 (CVV 市盈增长比) 相关词条
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CVD设备 (CVV) 公司简介
一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。