CVD设备 股价/每股有形账面价值 : 1.16 (今日)
CVD设备股价/每股有形账面价值(Price-to-Tangible-Book)的相关内容及计算方法如下:
股价/每股有形账面价值 由 当前股价 除以该公司的 每股有形账面价值 而得。截至今日, CVD设备 的 当前股价 为 $4.47, 过去一季度 每股有形账面价值 为 $ 3.84,所以 CVD设备 今日的 股价/每股有形账面价值 为 1.16。
CVD设备股价/每股有形账面价值或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:
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在过去十年内, CVD设备的股价/每股有形账面价值
最小值:0.66 中位数:1.21 最大值:3.04
当前值:1.16
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在工业制品内的 1509 家公司中
CVD设备的股价/每股有形账面价值 排名高于同行业 88.14% 的公司。
当前值:1.16 行业中位数:2.34
市净率 由 当前股价 除以该公司的 每股账面价值 而得。截至今日, CVD设备 的 当前股价 为 $4.47, 过去一季度 每股账面价值 为 $ 3.84,所以 CVD设备 今日的 股价/每股有形账面价值 为 1.16。
在过去十年, CVD设备的 市净率 最大值为 3.47, 最小值为 0.49, 中位数为 1.49。
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CVD设备 股价/每股有形账面价值 (CVV 股价/每股有形账面价值) 历史数据
CVD设备 股价/每股有形账面价值的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 股价/每股有形账面价值 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股价/每股有形账面价值 | 3.04 | 1.88 | 1.62 | 1.88 | 0.66 | 0.72 | 1.02 | 0.96 | 1.27 | 1.15 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
CVD设备 股价/每股有形账面价值 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-09 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股价/每股有形账面价值 | 1.02 | 0.96 | 1.07 | 0.97 | 1.28 | 1.27 | 3.06 | 1.75 | 1.61 | 1.15 |
CVD设备 股价/每股有形账面价值 (CVV 股价/每股有形账面价值) 行业比较
在特种工业机械(三级行业)中,CVD设备 股价/每股有形账面价值与其他类似公司的比较如下:
CVD设备 股价/每股有形账面价值 (CVV 股价/每股有形账面价值) 分布区间
在工业制品(二级行业)和工业(一级行业)中,CVD设备 股价/每股有形账面价值的分布区间如下:
CVD设备 股价/每股有形账面价值 (CVV 股价/每股有形账面价值) 计算方法
股价/每股有形账面价值是由当前股价除以 每股有形账面价值 而得。
截至今日,CVD设备的股价/每股有形账面价值为:
股价/每股有形账面价值 | = | 今日 当前股价 | / | 过去一季度 每股有形账面价值 |
= | $4.47 | / | 3.84 | |
= | 1.16 |
CVD设备 股价/每股有形账面价值 (CVV 股价/每股有形账面价值) 注意事项
CVD设备 股价/每股有形账面价值 (CVV 股价/每股有形账面价值) 相关词条
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CVD设备 (CVV) 公司简介
一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。