CVD设备 每股税息折旧及摊销前利润 : $ -0.50 (2023年12月 TTM)
CVD设备每股税息折旧及摊销前利润(EBITDA per Share)的相关内容及计算方法如下:
截至2023年12月, CVD设备 过去一季度 的 每股税息折旧及摊销前利润 为 $ -0.30。 CVD设备 最近12个月的 每股税息折旧及摊销前利润 为 $ -0.50。
CVD设备 1年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 -613.40%。 CVD设备 3年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 16.90%。
CVD设备每股税息折旧及摊销前利润或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:
★ ★ ★ ★ ★
在过去十年内, CVD设备的3年每股税息折旧及摊销前利润增长率 %
最小值:-49.4 中位数:9.9 最大值:183.7
当前值:16.9
★ ★ ★ ★ ★
在工业制品内的 1349 家公司中
CVD设备的3年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 排名高于同行业 67.46% 的公司。
当前值:16.9 行业中位数:7.3
CVD设备 1年总税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 -615.90%。 CVD设备 3年总税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 16.30%。
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CVD设备 每股税息折旧及摊销前利润 (CVV 每股税息折旧及摊销前利润) 历史数据
CVD设备 每股税息折旧及摊销前利润的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 每股税息折旧及摊销前利润 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
每股税息折旧及摊销前利润 | -0.46 | 0.87 | 0.04 | 1.28 | -0.61 | -0.52 | -0.87 | 0.86 | 0.10 | -0.50 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
CVD设备 每股税息折旧及摊销前利润 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-09 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
每股税息折旧及摊销前利润 | 0.92 | -0.15 | -0.11 | -0.10 | 0.03 | 0.28 | 0.02 | -0.13 | -0.09 | -0.30 |
CVD设备 每股税息折旧及摊销前利润 (CVV 每股税息折旧及摊销前利润) 计算方法
截至2023年12月,CVD设备过去一年的每股税息折旧及摊销前利润为:
每股税息折旧及摊销前利润 | = | 年度 税息折旧及摊销前利润 | / | 年度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 |
= | -3.38 | / | 6.79 | |
= | -0.50 |
截至2023年12月,CVD设备 过去一季度 的每股税息折旧及摊销前利润为:
每股税息折旧及摊销前利润 | = | 季度 税息折旧及摊销前利润 | / | 季度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 |
= | -2.05 | / | 6.79 | |
= | -0.30 |
CVD设备 每股税息折旧及摊销前利润 (CVV 每股税息折旧及摊销前利润) 解释说明
CVD设备 每股税息折旧及摊销前利润 (CVV 每股税息折旧及摊销前利润) 相关词条
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CVD设备 (CVV) 公司简介
一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。