中微公司 斯隆比率 % : 0.37% (2024年3月 最新)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

中微公司斯隆比率 %(Sloan Ratio %)的相关内容及计算方法如下:

密歇根大学的理查德·斯隆(Richard Sloan)首先记录了所谓的“应计异象”。他在1996年的论文中发现,应计项目较小或为负数的公司,其股票表现大大超过(+ 10%)应计项目较大的公司。
截至2024年3月, 中微公司 过去一季度斯隆比率 % 为 0.37%。 说明该公司处于安全区域,应计项目没有什么值得关注的, 详情请见“解释说明”。

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中微公司 斯隆比率 % (688012 斯隆比率 %) 历史数据

中微公司 斯隆比率 %的历史年度,季度/半年度走势如下:
中微公司 斯隆比率 % 年度数据
日期 2016-12 2017-12 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12 2023-12
斯隆比率 % 1.06 15.19 12.26 28.99 3.14 37.20 17.17 4.35
中微公司 斯隆比率 % 季度数据
日期 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12 2024-03
斯隆比率 % 37.20 42.83 36.48 31.61 17.17 7.37 12.69 10.24 4.35 0.37
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

半导体仪器和材料(三级行业)中,中微公司 斯隆比率 %与其他类似公司的比较如下:
* 选自同一行业,市值最接近的公司;x轴代表市值,y轴代表斯隆比率 %数值;点越大,公司市值越大。

中微公司 斯隆比率 % (688012 斯隆比率 %) 分布区间

半导体(二级行业)和科技(一级行业)中,中微公司 斯隆比率 %的分布区间如下:
* x轴代表斯隆比率 %数值,y轴代表落入该斯隆比率 %区间的公司数量;红色柱状图代表中微公司的斯隆比率 %所在的区间。

中微公司 斯隆比率 % (688012 斯隆比率 %) 计算方法

收入包含许多非现金收入,称为应计费用。斯隆比率 %是一种识别相对于现金流量而言非现金或应计项目较低的公司的方法。
截至2023年12月中微公司过去一年的斯隆比率 %为:
斯隆比率 % = (年度 归属于母公司股东的净利润 - 年度 经营活动产生的现金流量净额 - 年度 投资活动产生的现金流量净额 / 年度 资产总计
= (1786 - -976 - 1827) / 21526
= 4.35%
截至2024年3月中微公司 过去一季度斯隆比率 %为:
斯隆比率 % = (最近12个月 归属于母公司股东的净利润 - 最近12个月 经营活动产生的现金流量净额 - 最近12个月 投资活动产生的现金流量净额 / 季度 资产总计
= (1760 - -1215 - 2892) / 22373
= 0.37%
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

中微公司 斯隆比率 % (688012 斯隆比率 %) 解释说明

理查德·斯隆(Richard Sloan)曾是密歇根大学的研究员,他在1996年的论文中发现,应计项目较小或为负的公司的股票表现大大超过(+ 10%)了应计项目较大的公司。实际上,在1962年至2001年的40年期间,买入应计项目最低的公司并卖空应计项目最高的公司,其平均年复合收益率为18%,是同期标准普尔500指数(7.4%)的年收益的两倍以上。
根据如何利用斯隆比率 %来跑赢大市:
a. 如果斯隆比率 %的绝对值小于10% --> 说明该公司处于安全区域,应计项目没有什么值得关注的。
b. 如果斯隆比率 %的绝对值在10%到25%之间 --> 说明该公司不产生现金的应计项目在增加,需要警惕。
c. 如果斯隆比率 %的绝对值高于25% --> 说明公司盈余包含了很多不产生现金的应计项目,盈余持续性差。
截至2024年3月, 中微公司 过去一季度斯隆比率 % 为 0.37%。 说明该公司处于安全区域,应计项目没有什么值得关注的。

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中微公司 (688012) 公司简介

一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:www.amec-inc.com
公司地址:上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
公司简介:公司是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体微观加工设备公司,深耕芯片制造刻蚀领域,研制出了国内第一台电介质刻蚀机,是我国集成电路设备行业的领先企业。公司专注于集成电路、LED关键制造设备,核心产品包括:1)用于IC集成电路领域的等离子体刻蚀设备(CCP、ICP)、深硅刻蚀设备(TSV);2)用于LED芯片领域的MOCVD设备。目前公司等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造及先进封装。公司的MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产,公司已成为世界排名前列、国内占主导地位的氮化镓基LED设备制造商。