中微公司 毛利润 : ¥ 3030 (2024年3月 TTM)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

中微公司毛利润(Gross Profit)的相关内容及计算方法如下:

毛利润是销售收入与购买或生产商品的成本之间的差额。
截至2024年3月, 中微公司 过去一季度毛利润 为 ¥ 721。 中微公司 最近12个月的 毛利润 为 ¥ 3030。
毛利率 % 毛利润 除以该公司的 营业收入 而得。截至2024年3月, 中微公司 过去一季度 毛利润 为 ¥ 721, 过去一季度 营业收入 为 ¥ 1605, 所以 中微公司 过去一季度 毛利率 % 为 44.94%。

中微公司毛利润或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:

在过去十年内, 中微公司毛利率 %
最小值:34.93  中位数:40.56  最大值:45.83
当前值:45.6
半导体内的 629 家公司中
中微公司毛利率 % 排名高于同行业 76.95% 的公司。
当前值:45.6  行业中位数:29.52
截至2024年3月, 中微公司 过去一季度 毛利率 % 为 44.94%, 说明公司具有持续的竞争优势, 详情请见“解释说明”。
中微公司的 5年毛利率增长率 % 为 6.60% ∕ 每年。

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中微公司 毛利润 (688012 毛利润) 历史数据

中微公司 毛利润的历史年度,季度/半年度走势如下:
中微公司 毛利润 年度数据
日期 2016-12 2017-12 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12 2023-12
毛利润 259.16 375.04 581.97 680.05 856.24 1347.55 2167.90 2870.27
中微公司 毛利润 季度数据
日期 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12 2024-03
毛利润 462.86 431.54 462.92 490.40 783.04 561.08 598.27 692.79 1018.13 721.29
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

中微公司 毛利润 (688012 毛利润) 计算方法

毛利润是销售收入与购买或生产商品的成本之间的差额。
截至2023年12月中微公司过去一年的毛利润为:
毛利润 = 年度 营业收入 - 年度 营业成本
= 6264 - 3393
= 2870
截至2024年3月中微公司 过去一季度毛利润为:
毛利润 = 季度 营业收入 - 季度 营业成本
= 1605 - 884
= 721
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

中微公司 毛利润 (688012 毛利润) 解释说明

毛利率 % 毛利润除以 营业收入 的比率,通常以百分比表示。
截至2024年3月中微公司 过去一季度 毛利率 % 为:
毛利率 % = 季度 毛利润 / 季度 营业收入
= 721 / 1605
= 44.94%
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。
毛利润大于0只是公司获得净利润的第一步。毛利润必须大到足以覆盖相关的人工,设备,租金,市场营销及广告,研究与开发等许多产品销售的其他成本。
沃伦·巴菲特(Warren Buffett)认为,长期经济状况良好的公司往往会获得更高的 毛利率 %
持续竞争优势往往会产生更高的 毛利率 % 。因此公司可以按 毛利率 % 分为以下几类:
a. 毛利率 % 大于40% --> 持续竞争优势
b. 毛利率 % 介于20%和40%之间 --> 竞争优势下降
c. 毛利率 % 低于20% --> 不可持续的竞争优势
截至2024年3月, 中微公司 过去一季度 毛利率 % 为 44.94%, 说明公司具有持续的竞争优势。

中微公司 毛利润 (688012 毛利润) 注意事项

毛利率 % 的一致性是关键。如果一家公司失去竞争优势,通常其 毛利率 % 下降会早于 营业收入 的下降。请密切关注 毛利率 % 营业利润率 % ,以避免遇到价值陷阱的情况。

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中微公司 (688012) 公司简介

一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:www.amec-inc.com
公司地址:上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
公司简介:公司是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体微观加工设备公司,深耕芯片制造刻蚀领域,研制出了国内第一台电介质刻蚀机,是我国集成电路设备行业的领先企业。公司专注于集成电路、LED关键制造设备,核心产品包括:1)用于IC集成电路领域的等离子体刻蚀设备(CCP、ICP)、深硅刻蚀设备(TSV);2)用于LED芯片领域的MOCVD设备。目前公司等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米的集成电路加工制造及先进封装。公司的MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产,公司已成为世界排名前列、国内占主导地位的氮化镓基LED设备制造商。