拓荆科技 股价/每股有形账面价值 : 7.79 (今日)
拓荆科技股价/每股有形账面价值(Price-to-Tangible-Book)的相关内容及计算方法如下:
股价/每股有形账面价值 由 当前股价 除以该公司的 每股有形账面价值 而得。截至今日, 拓荆科技 的 当前股价 为 ¥187.60, 过去一季度 每股有形账面价值 为 ¥ 24.07,所以 拓荆科技 今日的 股价/每股有形账面价值 为 7.79。
拓荆科技股价/每股有形账面价值或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:
★ ★ ★ ★ ★
在过去十年内, 拓荆科技的股价/每股有形账面价值
最小值:5.79 中位数:9.55 最大值:14.18
当前值:7.79
★ ★ ★ ★ ★
在半导体内的 601 家公司中
拓荆科技的股价/每股有形账面价值 排名低于同行业 86.02% 的公司。
当前值:7.79 行业中位数:2.96
市净率 由 当前股价 除以该公司的 每股账面价值 而得。截至今日, 拓荆科技 的 当前股价 为 ¥187.60, 过去一季度 每股账面价值 为 ¥ 24.55,所以 拓荆科技 今日的 股价/每股有形账面价值 为 7.64。
在过去十年, 拓荆科技的 市净率 最大值为 17.34, 最小值为 5.77, 中位数为 10.14。
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拓荆科技 股价/每股有形账面价值 (688072 股价/每股有形账面价值) 历史数据
拓荆科技 股价/每股有形账面价值的历史年度,季度/半年度走势如下:
拓荆科技 股价/每股有形账面价值 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股价/每股有形账面价值 | - | - | - | - | 7.47 | 9.62 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
拓荆科技 股价/每股有形账面价值 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
股价/每股有形账面价值 | - | - | 5.79 | 10.73 | 7.47 | 9.47 | 14.18 | 11.19 | 9.62 | 7.83 |
拓荆科技 股价/每股有形账面价值 (688072 股价/每股有形账面价值) 行业比较
在半导体仪器和材料(三级行业)中,拓荆科技 股价/每股有形账面价值与其他类似公司的比较如下:
拓荆科技 股价/每股有形账面价值 (688072 股价/每股有形账面价值) 分布区间
在半导体(二级行业)和科技(一级行业)中,拓荆科技 股价/每股有形账面价值的分布区间如下:
拓荆科技 股价/每股有形账面价值 (688072 股价/每股有形账面价值) 计算方法
股价/每股有形账面价值是由当前股价除以 每股有形账面价值 而得。
截至今日,拓荆科技的股价/每股有形账面价值为:
股价/每股有形账面价值 | = | 今日 当前股价 | / | 过去一季度 每股有形账面价值 |
= | ¥187.60 | / | 24.07 | |
= | 7.79 |
拓荆科技 股价/每股有形账面价值 (688072 股价/每股有形账面价值) 注意事项
拓荆科技 股价/每股有形账面价值 (688072 股价/每股有形账面价值) 相关词条
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拓荆科技 (688072) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:www.sypiotech.cn
公司地址:辽宁省沈阳市浑南区水家900号
公司简介:公司自设立以来立足自主创新,通过对薄膜沉积设备核心技术的构建,产品在实现薄膜性能参数的同时,满足了综合生产成本相对较低的商业经济性指标。产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线。公司凭借长期技术研发和工艺积累,打破国际厂商对国内市场的垄断,与国际寡头直接竞争。公司的产品已适配国内最先进的28/14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128层3D NAND FLASH晶圆制造产线。公司获得2017年辽宁省政府颁发的“辽宁省科学技术进步一等奖”,中国电子专用设备工业协会2016年度“中国半导体创新产品”认证,2019年国家知识产权局颁发的“国家知识产权示范企业”称号,2021年中国集成电路创新联盟颁发的“技术创新奖”,中国半导体行业协会颁发的2016年、2017年、2019年“中国半导体设备五强企业”称号。
二级行业:半导体
公司网站:www.sypiotech.cn
公司地址:辽宁省沈阳市浑南区水家900号
公司简介:公司自设立以来立足自主创新,通过对薄膜沉积设备核心技术的构建,产品在实现薄膜性能参数的同时,满足了综合生产成本相对较低的商业经济性指标。产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线。公司凭借长期技术研发和工艺积累,打破国际厂商对国内市场的垄断,与国际寡头直接竞争。公司的产品已适配国内最先进的28/14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128层3D NAND FLASH晶圆制造产线。公司获得2017年辽宁省政府颁发的“辽宁省科学技术进步一等奖”,中国电子专用设备工业协会2016年度“中国半导体创新产品”认证,2019年国家知识产权局颁发的“国家知识产权示范企业”称号,2021年中国集成电路创新联盟颁发的“技术创新奖”,中国半导体行业协会颁发的2016年、2017年、2019年“中国半导体设备五强企业”称号。