拓荆科技 企业价值倍数 : 52.67 (今日)
拓荆科技企业价值倍数(EV-to-EBITDA)的相关内容及计算方法如下:
企业价值倍数 由 企业价值 除以该公司 最近12个月 的 税息折旧及摊销前利润 而得。截至今日, 拓荆科技 的 企业价值 为 ¥ 37076.296, 最近12个月 税息折旧及摊销前利润 为 ¥ 703.95,所以 拓荆科技 今日的 企业价值倍数 为 52.67。
拓荆科技企业价值倍数或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:
★ ★ ★ ★ ★
在过去十年内, 拓荆科技的企业价值倍数
最小值:38.65 中位数:102.51 最大值:339.95
当前值:54.51
★ ★ ★ ★ ★
在半导体内的 469 家公司中
拓荆科技的企业价值倍数 排名低于同行业 80.60% 的公司。
当前值:54.51 行业中位数:22.08
经典的企业价值倍数和 市盈率(TTM) 相比,前者可以更好的反应公司的债务和净现金情况。
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拓荆科技 企业价值倍数 (688072 企业价值倍数) 历史数据
拓荆科技 企业价值倍数的历史年度,季度/半年度走势如下:
拓荆科技 企业价值倍数 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
企业价值倍数 | - | - | - | - | 61.45 | 52.58 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
拓荆科技 企业价值倍数 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
企业价值倍数 | - | - | 98.20 | 177.57 | 61.45 | 70.58 | 124.77 | 97.55 | 52.58 | 50.63 |
拓荆科技 企业价值倍数 (688072 企业价值倍数) 行业比较
在半导体仪器和材料(三级行业)中,拓荆科技 企业价值倍数与其他类似公司的比较如下:
拓荆科技 企业价值倍数 (688072 企业价值倍数) 分布区间
在半导体(二级行业)和科技(一级行业)中,拓荆科技 企业价值倍数的分布区间如下:
拓荆科技 企业价值倍数 (688072 企业价值倍数) 计算方法
企业价值倍数是由企业价值除以最近12个月的 税息折旧及摊销前利润 而得。
截至今日,拓荆科技的企业价值倍数为:
企业价值倍数 | = | 今日 企业价值 | / | 最近12个月 税息折旧及摊销前利润 |
= | 37076.296 | / | 703.95 | |
= | 52.67 |
拓荆科技 企业价值倍数 (688072 企业价值倍数) 解释说明
截至今日,拓荆科技的 市盈率(TTM) 为:
研究发现,企业价值倍数低的公司要比以用其他比率(例如市盈率)衡量下低估值的公司表现得更好。
请阅读:哪个价格比率优于企业倍数?
拓荆科技 企业价值倍数 (688072 企业价值倍数) 相关词条
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拓荆科技 (688072) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:www.sypiotech.cn
公司地址:辽宁省沈阳市浑南区水家900号
公司简介:公司自设立以来立足自主创新,通过对薄膜沉积设备核心技术的构建,产品在实现薄膜性能参数的同时,满足了综合生产成本相对较低的商业经济性指标。产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线。公司凭借长期技术研发和工艺积累,打破国际厂商对国内市场的垄断,与国际寡头直接竞争。公司的产品已适配国内最先进的28/14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128层3D NAND FLASH晶圆制造产线。公司获得2017年辽宁省政府颁发的“辽宁省科学技术进步一等奖”,中国电子专用设备工业协会2016年度“中国半导体创新产品”认证,2019年国家知识产权局颁发的“国家知识产权示范企业”称号,2021年中国集成电路创新联盟颁发的“技术创新奖”,中国半导体行业协会颁发的2016年、2017年、2019年“中国半导体设备五强企业”称号。
二级行业:半导体
公司网站:www.sypiotech.cn
公司地址:辽宁省沈阳市浑南区水家900号
公司简介:公司自设立以来立足自主创新,通过对薄膜沉积设备核心技术的构建,产品在实现薄膜性能参数的同时,满足了综合生产成本相对较低的商业经济性指标。产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线。公司凭借长期技术研发和工艺积累,打破国际厂商对国内市场的垄断,与国际寡头直接竞争。公司的产品已适配国内最先进的28/14nm逻辑芯片、19/17nm DRAM芯片和64/128层3D NAND FLASH晶圆制造产线。公司获得2017年辽宁省政府颁发的“辽宁省科学技术进步一等奖”,中国电子专用设备工业协会2016年度“中国半导体创新产品”认证,2019年国家知识产权局颁发的“国家知识产权示范企业”称号,2021年中国集成电路创新联盟颁发的“技术创新奖”,中国半导体行业协会颁发的2016年、2017年、2019年“中国半导体设备五强企业”称号。