富乐德 席勒市盈率 : 负值无意义 (今日)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

富乐德席勒市盈率(Shiller PE Ratio)的相关内容及计算方法如下:

席勒市盈率 由耶鲁大学教授Robert Shiller首创,用于衡量整个市场的估值。同样的计算方法也适用于单个公司。 价值大师(GuruFocus)利用 当前股价 除以该公司经过通胀调整后的 稀释每股收益 十年均值(也叫做 通货膨胀调整利润的10年平均数 ) 得到单个公司的席勒市盈率。截至今日, 富乐德 的 当前股价 为 ¥22.70, 过去一季度 通货膨胀调整利润的10年平均数 为 ¥ 0.00,所以 富乐德 今日的 席勒市盈率 为 负值无意义。

富乐德席勒市盈率或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:

在过去十年内, 富乐德席勒市盈率
最小值:0  中位数:0  最大值:0
当前值:0
富乐德席勒市盈率没有参与排名。
截至2024年3月, 富乐德 过去一季度 稀释每股收益 为 ¥ 0.07, 富乐德 经过通胀调整后的 稀释每股收益 十年均值(也叫做 通货膨胀调整利润的10年平均数 ) 为 ¥ 0.00。

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富乐德 席勒市盈率 (301297 席勒市盈率) 历史数据

富乐德 席勒市盈率的历史年度,季度/半年度走势如下:
富乐德 席勒市盈率 年度数据
日期 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12 2023-12
席勒市盈率 - - - - - -
富乐德 席勒市盈率 季度数据
日期 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12 2024-03
席勒市盈率 - - - - - - - - - -
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

半导体仪器和材料(三级行业)中,富乐德 席勒市盈率与其他类似公司的比较如下:
* 选自同一行业,市值最接近的公司;x轴代表市值,y轴代表席勒市盈率数值;点越大,公司市值越大。

富乐德 席勒市盈率 (301297 席勒市盈率) 分布区间

半导体(二级行业)和科技(一级行业)中,富乐德 席勒市盈率的分布区间如下:
* x轴代表席勒市盈率数值,y轴代表落入该席勒市盈率区间的公司数量;红色柱状图代表富乐德的席勒市盈率所在的区间。

富乐德 席勒市盈率 (301297 席勒市盈率) 计算方法

席勒市盈率 由耶鲁大学教授Robert Shiller首创,用于衡量整个市场的估值。同样的计算方法也适用于单个公司。 价值大师(GuruFocus)利用 当前股价 除以该公司经过通胀调整后的 稀释每股收益 十年均值(也叫做 通货膨胀调整利润的10年平均数 ) 得到单个公司的席勒市盈率
截至今日富乐德席勒市盈率为:
席勒市盈率 = 今日 当前股价 / 通货膨胀调整利润的10年平均数
= ¥22.70 / 0.00
= 负值无意义
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。
** 注意:在对 稀释每股收益 进行通胀调整时,价值大师(GuruFocus)使用公司总部所在国家/地区的CPI数据。如果我们没有该国家/地区的CPI数据,则默认使用美国的CPI。

富乐德 席勒市盈率 (301297 席勒市盈率) 解释说明

与常规 市盈率(TTM) (对周期性业务效果不佳)相比,席勒市盈率消除了商业周期中利润率的波动。因此,它更准确地反映了公司的估值。
如果一家公司的业务绩效稳定,则席勒市盈率应与常规 市盈率(TTM) 结果接近。
市销率 相比,席勒市盈率更适合不同行业之间的比较。

富乐德 席勒市盈率 (301297 席勒市盈率) 注意事项

席勒市盈率假设,从长远来看,公司业务和盈利能力将恢复其收入水平。如果将来公司的业务模式与过去相比大不相同,则席勒市盈率 市销率 将给出错误的估值。

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富乐德 (301297) 公司简介

一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:www.ftvas.com
公司地址:安徽省铜陵市义安区金桥经济开发区南海路18号
公司简介:发行人系由上海申和洗净表面处理事业部逐步演变而来。自设立以来(包括公司成立前身上海申和表面处理事业部,下同),公司始终专注于泛半导体设备洗净服务,公司主营业务、主要经营模式等均未发生重大变化。2001年,上海申和成立表面处理事业部,开始进行半导体设备洗净技术研发和技术积累工作。该业务完全独立于间接控股股东日本FERROTEC(及其下属其他子公司)、独立于控股股东上海申和的其他业务部门,系全新设立并自主发展的业务领域,与之相关技术、人员、装备及客户均系自身逐步积累拓展形成。在公司主要服务的产品线中,在半导体设备清洗首先实现了市场突破。2003年,上海申和表面处理事业部成功量产ETCH(蚀刻)、DIFF(扩散)、LITHO(光刻)等半导体零件清洗,量产8英寸350nm制程设备清洗。2005年,开始清洗TFT行业生产设备,在显示面板设备洗净领域取得突破。在泛半导体设备清洗服务领域,公司技术、管理、生产、销售等团队逐步形成,经过十多年的研发和技术积累,成功成为众多全球知名泛半导体制造企业的洗净服务供应商。