富乐德 每股经营现金流 : ¥ 0.47 (2024年3月 TTM)
富乐德每股经营现金流(Operating Cash Flow per Share)的相关内容及计算方法如下:
每股经营现金流是 经营活动产生的现金流量净额 除以 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 而得。 截至2024年3月, 富乐德 过去一季度 的 每股经营现金流 为 ¥ 0.14。 富乐德 最近12个月 的 每股经营现金流 为 ¥ 0.47。
富乐德的 1年每股经营现金流增长率 % 为 -6.00%。 富乐德的 3年每股经营现金流增长率 % 为 -8.10%。
富乐德每股经营现金流或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:
★ ★ ★ ★ ★
在过去十年内, 富乐德的3年每股经营现金流增长率 %
最小值:-8.1 中位数:-8.1 最大值:-8.1
当前值:-8.1
★ ★ ★ ★ ★
在半导体内的 491 家公司中
富乐德的3年每股经营现金流增长率 % 排名低于同行业 66.40% 的公司。
当前值:-8.1 行业中位数:4.5
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富乐德 每股经营现金流 (301297 每股经营现金流) 历史数据
富乐德 每股经营现金流的历史年度,季度/半年度走势如下:
富乐德 每股经营现金流 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
每股经营现金流 | - | - | 0.52 | 0.53 | 0.57 | 0.40 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
富乐德 每股经营现金流 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
每股经营现金流 | - | 0.14 | 0.15 | 0.13 | 0.15 | 0.07 | 0.16 | 0.09 | 0.08 | 0.14 |
富乐德 每股经营现金流 (301297 每股经营现金流) 计算方法
截至2023年12月,富乐德过去一年的每股经营现金流为:
每股经营现金流 | = | 年度 经营活动产生的现金流量净额 | / | 年度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 |
= | 136 | / | 338 | |
= | 0.40 |
截至2024年3月,富乐德 过去一季度 的每股经营现金流为:
每股经营现金流 | = | 季度 经营活动产生的现金流量净额 | / | 季度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 |
= | 47 | / | 338 | |
= | 0.14 |
富乐德 每股经营现金流 (301297 每股经营现金流) 相关词条
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富乐德 (301297) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:www.ftvas.com
公司地址:安徽省铜陵市义安区金桥经济开发区南海路18号
公司简介:发行人系由上海申和洗净表面处理事业部逐步演变而来。自设立以来(包括公司成立前身上海申和表面处理事业部,下同),公司始终专注于泛半导体设备洗净服务,公司主营业务、主要经营模式等均未发生重大变化。2001年,上海申和成立表面处理事业部,开始进行半导体设备洗净技术研发和技术积累工作。该业务完全独立于间接控股股东日本FERROTEC(及其下属其他子公司)、独立于控股股东上海申和的其他业务部门,系全新设立并自主发展的业务领域,与之相关技术、人员、装备及客户均系自身逐步积累拓展形成。在公司主要服务的产品线中,在半导体设备清洗首先实现了市场突破。2003年,上海申和表面处理事业部成功量产ETCH(蚀刻)、DIFF(扩散)、LITHO(光刻)等半导体零件清洗,量产8英寸350nm制程设备清洗。2005年,开始清洗TFT行业生产设备,在显示面板设备洗净领域取得突破。在泛半导体设备清洗服务领域,公司技术、管理、生产、销售等团队逐步形成,经过十多年的研发和技术积累,成功成为众多全球知名泛半导体制造企业的洗净服务供应商。
二级行业:半导体
公司网站:www.ftvas.com
公司地址:安徽省铜陵市义安区金桥经济开发区南海路18号
公司简介:发行人系由上海申和洗净表面处理事业部逐步演变而来。自设立以来(包括公司成立前身上海申和表面处理事业部,下同),公司始终专注于泛半导体设备洗净服务,公司主营业务、主要经营模式等均未发生重大变化。2001年,上海申和成立表面处理事业部,开始进行半导体设备洗净技术研发和技术积累工作。该业务完全独立于间接控股股东日本FERROTEC(及其下属其他子公司)、独立于控股股东上海申和的其他业务部门,系全新设立并自主发展的业务领域,与之相关技术、人员、装备及客户均系自身逐步积累拓展形成。在公司主要服务的产品线中,在半导体设备清洗首先实现了市场突破。2003年,上海申和表面处理事业部成功量产ETCH(蚀刻)、DIFF(扩散)、LITHO(光刻)等半导体零件清洗,量产8英寸350nm制程设备清洗。2005年,开始清洗TFT行业生产设备,在显示面板设备洗净领域取得突破。在泛半导体设备清洗服务领域,公司技术、管理、生产、销售等团队逐步形成,经过十多年的研发和技术积累,成功成为众多全球知名泛半导体制造企业的洗净服务供应商。