阿斯麦 企业价值倍数 : 36.3 (今日)
阿斯麦企业价值倍数(EV-to-EBITDA)的相关内容及计算方法如下:
企业价值倍数 由 企业价值 除以该公司 最近12个月 的 税息折旧及摊销前利润 而得。截至今日, 阿斯麦 的 企业价值 为 $ 361643.408, 最近12个月 税息折旧及摊销前利润 为 $ 9961.87,所以 阿斯麦 今日的 企业价值倍数 为 36.3。
阿斯麦企业价值倍数或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:
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在过去十年内, 阿斯麦的企业价值倍数
最小值:16.04 中位数:25.86 最大值:50.67
当前值:36.3
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在半导体内的 473 家公司中
阿斯麦的企业价值倍数 排名低于同行业 68.92% 的公司。
当前值:36.3 行业中位数:22.09
经典的企业价值倍数和 市盈率(TTM) 相比,前者可以更好的反应公司的债务和净现金情况。
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阿斯麦 企业价值倍数 (ASMLF 企业价值倍数) 历史数据
阿斯麦 企业价值倍数的历史年度,季度/半年度走势如下:
阿斯麦 企业价值倍数 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
企业价值倍数 | 25.52 | 18.95 | 22.32 | 22.37 | 16.75 | 33.56 | 35.80 | 38.93 | 27.56 | 26.65 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
阿斯麦 企业价值倍数 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
企业价值倍数 | 38.93 | 38.89 | 27.11 | 26.04 | 27.56 | 28.46 | 28.09 | 23.17 | 26.65 | 38.15 |
阿斯麦 企业价值倍数 (ASMLF 企业价值倍数) 行业比较
在半导体仪器和材料(三级行业)中,阿斯麦 企业价值倍数与其他类似公司的比较如下:
阿斯麦 企业价值倍数 (ASMLF 企业价值倍数) 分布区间
在半导体(二级行业)和科技(一级行业)中,阿斯麦 企业价值倍数的分布区间如下:
阿斯麦 企业价值倍数 (ASMLF 企业价值倍数) 计算方法
企业价值倍数是由企业价值除以最近12个月的 税息折旧及摊销前利润 而得。
截至今日,阿斯麦的企业价值倍数为:
企业价值倍数 | = | 今日 企业价值 | / | 最近12个月 税息折旧及摊销前利润 |
= | 361643.408 | / | 9961.87 | |
= | 36.3 |
阿斯麦 企业价值倍数 (ASMLF 企业价值倍数) 解释说明
截至今日,阿斯麦的 市盈率(TTM) 为:
研究发现,企业价值倍数低的公司要比以用其他比率(例如市盈率)衡量下低估值的公司表现得更好。
请阅读:哪个价格比率优于企业倍数?
阿斯麦 企业价值倍数 (ASMLF 企业价值倍数) 相关词条
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阿斯麦 (ASMLF) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。
二级行业:半导体
公司网站:https://www.asml.com
公司地址:De Run 6501, Veldhoven, NB, NLD, 5504 DR
公司简介:ASML成立于1984年,总部位于荷兰,是半导体制造中使用的光刻系统的领导者。光刻技术是使用光源将光掩模中的电路图案暴露到半导体晶圆上的过程。该领域的最新技术进步使芯片制造商能够不断增加相同硅区域的晶体管数量,而光刻技术历来在制造尖端芯片的成本中占有很大比例。芯片制造商需要ASML的下一代EUV光刻工具才能继续超越5纳米工艺节点。ASML的产品被所有主要的半导体制造商使用,包括英特尔、三星和台积电。