A.C.Moore美工 每股税息折旧及摊销前利润 : $ 1.95 (2023年12月 TTM)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

A.C.Moore美工每股税息折旧及摊销前利润(EBITDA per Share)的相关内容及计算方法如下:

每股税息折旧及摊销前利润 税息折旧及摊销前利润 除以 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 计算而得。 税息折旧及摊销前利润 又叫未计利息、税项、折旧及摊销前的利润,是衡量公司盈利的重要指标。
截至2023年12月, A.C.Moore美工 过去一季度每股税息折旧及摊销前利润 为 $ 0.53。 A.C.Moore美工 最近12个月的 每股税息折旧及摊销前利润 为 $ 1.95。
A.C.Moore美工 1年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 72.10%。 A.C.Moore美工 3年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 80.00%。 A.C.Moore美工 5年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 62.20%。

A.C.Moore美工每股税息折旧及摊销前利润或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:

在过去十年内, A.C.Moore美工3年每股税息折旧及摊销前利润增长率 %
最小值:-18.1  中位数:56.65  最大值:212.6
当前值:80
半导体内的 525 家公司中
A.C.Moore美工3年每股税息折旧及摊销前利润增长率 % 排名高于同行业 97.14% 的公司。
当前值:80  行业中位数:9.2
截至2023年12月, A.C.Moore美工 过去一季度 税息折旧及摊销前利润 为 $ 34。 A.C.Moore美工 最近12个月的 税息折旧及摊销前利润 为 $ 127。
A.C.Moore美工 1年总税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 70.70%。 A.C.Moore美工 3年总税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 81.20%。 A.C.Moore美工 5年总税息折旧及摊销前利润增长率 % 为 68.60%。

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A.C.Moore美工 每股税息折旧及摊销前利润 (ACMR 每股税息折旧及摊销前利润) 历史数据

A.C.Moore美工 每股税息折旧及摊销前利润的历史年度,季度/半年度走势如下:
A.C.Moore美工 每股税息折旧及摊销前利润 年度数据
日期 2015-12 2016-12 2017-12 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12 2023-12
每股税息折旧及摊销前利润 0.28 0.14 0.01 0.15 0.36 0.34 0.71 1.14 1.96
A.C.Moore美工 每股税息折旧及摊销前利润 季度数据
日期 2021-09 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12
每股税息折旧及摊销前利润 0.18 0.35 -0.17 0.40 0.60 0.29 0.22 0.68 0.53 0.53
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

A.C.Moore美工 每股税息折旧及摊销前利润 (ACMR 每股税息折旧及摊销前利润) 计算方法

每股税息折旧及摊销前利润 税息折旧及摊销前利润 除以 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 计算而得。 税息折旧及摊销前利润 又叫未计利息、税项、折旧及摊销前的利润,是衡量公司盈利的重要指标。
截至2023年12月A.C.Moore美工过去一年的每股税息折旧及摊销前利润为:
每股税息折旧及摊销前利润 = 年度 税息折旧及摊销前利润 / 年度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数
= 127 / 64.87
= 1.96
截至2023年12月A.C.Moore美工 过去一季度每股税息折旧及摊销前利润为:
每股税息折旧及摊销前利润 = 季度 税息折旧及摊销前利润 / 季度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数
= 34 / 64.98
= 0.53
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

A.C.Moore美工 每股税息折旧及摊销前利润 (ACMR 每股税息折旧及摊销前利润) 解释说明


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A.C.Moore美工 (ACMR) 公司简介

一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:http://www.acmrcsh.com
公司地址:42307 Osgood Road, Suite I, Fremont, CA, USA, 94539
公司简介:ACM Research Inc 是一家总部位于美国的公司。它从事开发、制造和销售单晶圆湿式清洗设备,半导体制造商在许多制造步骤中使用该设备去除颗粒、污染物和其他随机缺陷以提高产品良率,制造先进的集成电路或芯片。该公司提供空间交替相移,该技术利用兆声波的交替相位,在微观层面上将兆音能量输送到平面和图案化的晶圆表面;以及及时的 Energized Bubble Sciption 技术,可为传统的两种晶圆提供有效、无损坏的清洁以及高级工艺节点上的三维图案化晶圆。它以Ultra C品牌销售和销售一系列设备。