科磊 毛利润/总资产 % : 37.38% (2024年3月 最新)
科磊毛利润/总资产 %(Gross-Profit-to-Asset %)的相关内容及计算方法如下:
毛利润/总资产 %是由公司的 毛利润 除以该公司一段时期内的平均 资产总计 而得。截至2024年3月, 科磊 过去一季度 的年化 毛利润 为 $ 5463.78, 过去一季度 的平均 资产总计 为 $ 14618.90, 所以 科磊 过去一季度 的 毛利润/总资产 % 为 37.38%。
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科磊 毛利润/总资产 % (KLAC 毛利润/总资产 %) 历史数据
科磊 毛利润/总资产 %的历史年度,季度/半年度走势如下:
科磊 毛利润/总资产 % 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-06 | 2015-06 | 2016-06 | 2017-06 | 2018-06 | 2019-06 | 2020-06 | 2021-06 | 2022-06 | 2023-06 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
毛利润/总资产 % | 31.35 | 30.86 | 37.21 | 41.81 | 46.38 | 36.86 | 36.71 | 42.42 | 49.15 | 47.08 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
科磊 毛利润/总资产 % 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
毛利润/总资产 % | 50.62 | 47.15 | 49.02 | 52.35 | 52.88 | 41.65 | 40.13 | 41.12 | 42.51 | 37.38 |
科磊 毛利润/总资产 % (KLAC 毛利润/总资产 %) 计算方法
截至2023年6月,科磊过去一年的毛利润/总资产 %为:
毛利润/总资产 % | |||||||
= | 年度 毛利润 | / | 平均 年度 资产总计 | ||||
= | 年度 毛利润 | / | ((期初 年度 资产总计 | + | 期末 年度 资产总计 ) | / | 期数 ) |
= | 6278 | / | ((12597.09 | + | 14072.36) | / | 2 ) |
= | 47.08% |
截至2024年3月,科磊 过去一季度 的毛利润/总资产 %为:
毛利润/总资产 % | |||||||||
= | 季度 毛利润 | * | 年化参数 | / | 平均 季度 资产总计 | ||||
= | 季度 毛利润 | * | 年化参数 | / | ((期初 季度 资产总计 | + | 期末 季度 资产总计 ) | / | 期数 ) |
= | 1366 | * | 4 | / | ((14280.50 | + | 14957.29) | / | 2 ) |
= | 37.38% |
科磊 毛利润/总资产 % (KLAC 毛利润/总资产 %) 相关词条
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科磊 (KLAC) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:https://www.kla.com
公司地址:One Technology Drive, Milpitas, CA, USA, 95035
公司简介:KLA为半导体行业设计和制造良率管理和过程监控诊断和控制系统。这些系统用于分析半导体开发过程中各个阶段的制造过程。该公司的激光扫描产品用于晶圆鉴定、过程监控和设备监控。KLA还提供用于光学计量和电子束测量的检测工具和系统。
二级行业:半导体
公司网站:https://www.kla.com
公司地址:One Technology Drive, Milpitas, CA, USA, 95035
公司简介:KLA为半导体行业设计和制造良率管理和过程监控诊断和控制系统。这些系统用于分析半导体开发过程中各个阶段的制造过程。该公司的激光扫描产品用于晶圆鉴定、过程监控和设备监控。KLA还提供用于光学计量和电子束测量的检测工具和系统。