CVD设备 每股息税前利润 : $ -0.83 (2024年3月 TTM)
CVD设备每股息税前利润(EBIT per Share)的相关内容及计算方法如下:
截至2024年3月, CVD设备 过去一季度 的 每股息税前利润 为 $ -0.22。 CVD设备 最近12个月的 每股息税前利润 为 $ -0.83。
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CVD设备 每股息税前利润 (CVV 每股息税前利润) 历史数据
CVD设备 每股息税前利润的历史年度,季度/半年度走势如下:
CVD设备 每股息税前利润 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | 2023-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
每股息税前利润 | -0.59 | 0.74 | -0.09 | 1.14 | -0.78 | -0.68 | -1.08 | 0.75 | -0.03 | -0.61 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
CVD设备 每股息税前利润 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | 2023-12 | 2024-03 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
每股息税前利润 | -0.18 | -0.15 | -0.13 | 0.01 | 0.23 | -0.01 | -0.16 | -0.11 | -0.34 | -0.22 |
CVD设备 每股息税前利润 (CVV 每股息税前利润) 计算方法
截至2023年12月,CVD设备过去一年的每股息税前利润为:
每股息税前利润 | = | 年度 息税前利润 | / | 年度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 |
= | -4.17 | / | 6.79 | |
= | -0.61 |
截至2024年3月,CVD设备 过去一季度 的每股息税前利润为:
每股息税前利润 | = | 季度 息税前利润 | / | 季度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 |
= | -1.47 | / | 6.81 | |
= | -0.22 |
CVD设备 每股息税前利润 (CVV 每股息税前利润) 解释说明
每股息税前利润是指公司在扣除利息和税金之前的收益。它衡量公司从运营中产生的利润,而忽略税收负担和资本结构。由于未扣除税收费用,因此在比较同一行业但税收情况不同的公司时,每股息税前利润很有用。此外,利息费用也包含在每股息税前利润中,因此可以比较由于大量债务而产生高利息费用的公司。
CVD设备 每股息税前利润 (CVV 每股息税前利润) 相关词条
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CVD设备 (CVV) 公司简介
一级行业:工业
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。
二级行业:工业制品
公司网站:https://www.cvdequipment.com
公司地址:355 South Technology Drive, Central Islip, NY, USA, 11722
公司简介:CVD 设备公司从事制造化学气相沉积设备、定制气体控制系统、适用于合成各种一维纳米结构和纳米材料的工艺设备以及一系列熔炉,所有这些都用于生产半导体和其他电子元件。该公司分为三个部门:CVD、CVD材料和不锈钢设计概念(SDC)。其化学气相沉积部门用于硅、硅锗、碳化硅和砷化镓工艺。CVD部门为公司创造了最大的收入。