Tokyo Electron Ltd 市净率 : 9.94 (今日)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

Tokyo Electron Ltd市净率(PB Ratio)的相关内容及计算方法如下:

市净率 由 当前股价 除以该公司的 每股账面价值 而得。截至今日, Tokyo Electron Ltd 的 当前股价 为 $117.62, 过去一季度 每股账面价值 为 $ 11.84,所以 Tokyo Electron Ltd 今日的 市净率 为 9.94。

Tokyo Electron Ltd市净率或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:

在过去十年内, Tokyo Electron Ltd市净率
最小值:1.24  中位数:3.99  最大值:11.61
当前值:10.61
半导体内的 622 家公司中
Tokyo Electron Ltd市净率 排名低于同行业 93.89% 的公司。
当前值:10.61  行业中位数:2.72
Tokyo Electron Ltd 1年每股账面价值增长率 % 为 11.00%。 Tokyo Electron Ltd 3年每股账面价值增长率 % 为 24.30%。 Tokyo Electron Ltd 5年每股账面价值增长率 % 为 17.10%。 Tokyo Electron Ltd 10年每股账面价值增长率 % 为 12.10%。
在过去十年内, Tokyo Electron Ltd的 3年每股账面价值增长率 % 最大值为 24.30%, 最小值为 -5.90%, 中位数为 7.45%。

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Tokyo Electron Ltd 市净率 (TOELY 市净率) 历史数据

Tokyo Electron Ltd 市净率的历史年度,季度/半年度走势如下:
Tokyo Electron Ltd 市净率 年度数据
日期 2014-03 2015-03 2016-03 2017-03 2018-03 2019-03 2020-03 2021-03 2022-03 2023-03
市净率 1.98 2.34 2.13 3.14 4.16 2.99 3.76 7.21 7.05 4.64
Tokyo Electron Ltd 市净率 季度数据
日期 2021-09 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09 2023-12
市净率 6.39 8.37 7.05 5.17 3.70 4.29 4.64 6.17 6.11 7.51
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

半导体仪器和材料(三级行业)中,Tokyo Electron Ltd 市净率与其他类似公司的比较如下:
* 选自同一行业,市值最接近的公司;x轴代表市值,y轴代表市净率数值;点越大,公司市值越大。

Tokyo Electron Ltd 市净率 (TOELY 市净率) 分布区间

半导体(二级行业)和科技(一级行业)中,Tokyo Electron Ltd 市净率的分布区间如下:
* x轴代表市净率数值,y轴代表落入该市净率区间的公司数量;红色柱状图代表Tokyo Electron Ltd的市净率所在的区间。

Tokyo Electron Ltd 市净率 (TOELY 市净率) 计算方法

市净率是由当前股价除以 每股账面价值 而得。
截至今日Tokyo Electron Ltd市净率为:
市净率 = 今日 当前股价 / 过去一季度 每股账面价值
= $117.62 / 11.84
= 9.94
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

Tokyo Electron Ltd 市净率 (TOELY 市净率) 解释说明

市盈率(TTM) 市销率 股价/每股经营现金流 股价/自由现金流 不同,市净率根据公司的资产负债表衡量估值,而前者都是根据公司的盈利能力来衡量估值。
市净率最适合衡量主要从资产中获利的企业,例如银行和保险公司。

Tokyo Electron Ltd 市净率 (TOELY 市净率) 注意事项

市净率不适用于资产非常低的公司,例如软件公司或保险公司。 有些公司甚至拥有负资产,也不能用市净率来衡量。

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Tokyo Electron Ltd (TOELY) 公司简介

一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:http://www.tel.co.jp
公司地址:Akasaka Biz Tower, 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo, JPN, 107-6325
公司简介:东京电子是半导体制造工具的主要供应商。它主要用于蚀刻、沉积和清洁领域,这些领域涉及向半导体晶圆中添加和去除材料。客户包括领先的逻辑、代工和内存芯片制造商,如英特尔、台积电、美光和三星。