江丰电子 每股经营现金流 : ¥ 1.11 (2023年9月 TTM)
江丰电子每股经营现金流(Operating Cash Flow per Share)的相关内容及计算方法如下:
每股经营现金流是 经营活动产生的现金流量净额 除以 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 而得。 截至2023年9月, 江丰电子 过去一季度 的 每股经营现金流 为 ¥ 0.51。 江丰电子 最近12个月 的 每股经营现金流 为 ¥ 1.11。
江丰电子的 3年每股经营现金流增长率 % 为 -45.60%。
江丰电子每股经营现金流或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:
★ ★ ★ ★ ★
在过去十年内, 江丰电子的3年每股经营现金流增长率 %
最小值:-53 中位数:5.1 最大值:166.4
当前值:-45.6
★ ★ ★ ★ ★
在半导体内的 481 家公司中
江丰电子的3年每股经营现金流增长率 % 排名低于同行业 89.19% 的公司。
当前值:-45.6 行业中位数:5.3
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江丰电子 每股经营现金流 (300666 每股经营现金流) 历史数据
江丰电子 每股经营现金流的历史年度,季度/半年度走势如下:
江丰电子 每股经营现金流 年度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2013-12 | 2014-12 | 2015-12 | 2016-12 | 2017-12 | 2018-12 | 2019-12 | 2020-12 | 2021-12 | 2022-12 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
每股经营现金流 | - | 0.17 | 0.23 | 0.37 | 0.20 | 0.02 | 0.43 | -0.20 | 0.45 | 0.07 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
江丰电子 每股经营现金流 季度数据 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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日期 | 2021-06 | 2021-09 | 2021-12 | 2022-03 | 2022-06 | 2022-09 | 2022-12 | 2023-03 | 2023-06 | 2023-09 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
每股经营现金流 | 0.25 | 0.33 | -0.01 | -0.28 | 0.11 | 0.07 | 0.16 | 0.12 | 0.32 | 0.51 |
江丰电子 每股经营现金流 (300666 每股经营现金流) 计算方法
截至2022年12月,江丰电子过去一年的每股经营现金流为:
每股经营现金流 | = | 年度 经营活动产生的现金流量净额 | / | 年度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 |
= | 16 | / | 239 | |
= | 0.07 |
截至2023年9月,江丰电子 过去一季度 的每股经营现金流为:
每股经营现金流 | = | 季度 经营活动产生的现金流量净额 | / | 季度 发行在外的稀释性潜在普通股平均股数 |
= | 136 | / | 266 | |
= | 0.51 |
江丰电子 每股经营现金流 (300666 每股经营现金流) 相关词条
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江丰电子 (300666) 公司简介
一级行业:科技
二级行业:半导体
公司网站:www.kfmic.com
公司地址:浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
公司简介:公司自成立以来一直从事高纯溅射靶材的研发、生产和销售业务,主要产品为各种高纯溅射靶材,包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等,这些产品主要应用于半导体(主要为超大规模集成电路领域)、平板显示、太阳能等领域。超高纯金属及溅射靶材是生产超大规模集成电路的关键材料之一,公司的超高纯金属溅射靶材产品已应用于世界著名半导体厂商的最先端制造工艺,在16纳米技术节点实现批量供货,同时还满足了国内厂商28纳米技术节点的量产需求。
二级行业:半导体
公司网站:www.kfmic.com
公司地址:浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
公司简介:公司自成立以来一直从事高纯溅射靶材的研发、生产和销售业务,主要产品为各种高纯溅射靶材,包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等,这些产品主要应用于半导体(主要为超大规模集成电路领域)、平板显示、太阳能等领域。超高纯金属及溅射靶材是生产超大规模集成电路的关键材料之一,公司的超高纯金属溅射靶材产品已应用于世界著名半导体厂商的最先端制造工艺,在16纳米技术节点实现批量供货,同时还满足了国内厂商28纳米技术节点的量产需求。