晶瑞电材 股息支付率 : 4.24 (2023年9月 最新)

* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

晶瑞电材股息支付率(Dividend Payout Ratio)的相关内容及计算方法如下:

股息支付率,又称“股利分配率”或“股利发放率”,是向股东分派的股息占公司盈利的比率。它反映公司的股利分配政策和股利支付能力。它是由 每股股息 除以该公司的 持续经营每股收益 稀释每股收益 而得。 截至2023年9月, 晶瑞电材 过去一季度 每股股息 为 ¥ 0.05, 过去一季度 持续经营每股收益 为 ¥ 0.01, 所以 晶瑞电材 过去一季度股息支付率 为 4.24。

晶瑞电材股息支付率或其相关指标的历史排名和行业排名结果如下所示:

在过去十年内, 晶瑞电材股息支付率
最小值:0.33  中位数:0.5  最大值:1
当前值:0.64
化工内的 448 家公司中
晶瑞电材股息支付率 排名低于同行业 67.63% 的公司。
当前值:0.64  行业中位数:0.46
股息率 % 是过去12个月的股息与当前股价之间的比率。在投资实践中, 股息率 % 是衡量企业是否具有投资价值的重要标尺之一。 截至2023年9月, 晶瑞电材 过去一季度 股息率 % 为 0.47%。
在过去十年, 晶瑞电材 股息率 % 最大值为 0.97%, 最小值为 0.19%, 中位数为 0.49%。
截至2023年9月, 晶瑞电材 过去一季度 每股股息 为 ¥ 0.05。 晶瑞电材 最近12个月的 每股股息 为 ¥ 0.05。
晶瑞电材 1年每股股利增长率 % 为 -13.80%。 晶瑞电材 3年每股股利增长率 % 为 26.00%。
在过去十年内, 晶瑞电材的 3年每股股利增长率 % 最大值为 26.00%, 最小值为 -6.20%, 中位数为 9.90%。

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晶瑞电材 股息支付率 (300655 股息支付率) 历史数据

晶瑞电材 股息支付率的历史年度,季度/半年度走势如下:
晶瑞电材 股息支付率 年度数据
日期 2013-12 2014-12 2015-12 2016-12 2017-12 2018-12 2019-12 2020-12 2021-12 2022-12
股息支付率 - - - - 0.44 - 0.73 0.23 0.19 0.35
晶瑞电材 股息支付率 季度数据
日期 2021-06 2021-09 2021-12 2022-03 2022-06 2022-09 2022-12 2023-03 2023-06 2023-09
股息支付率 0.42 - - - 1.09 - - - - 4.24
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

特种化学制品(三级行业)中,晶瑞电材 股息支付率与其他类似公司的比较如下:
* 选自同一行业,市值最接近的公司;x轴代表市值,y轴代表股息支付率数值;点越大,公司市值越大。

晶瑞电材 股息支付率 (300655 股息支付率) 分布区间

化工(二级行业)和基础材料(一级行业)中,晶瑞电材 股息支付率的分布区间如下:
* x轴代表股息支付率数值,y轴代表落入该股息支付率区间的公司数量;红色柱状图代表晶瑞电材的股息支付率所在的区间。

晶瑞电材 股息支付率 (300655 股息支付率) 计算方法

股息支付率,又称“股利分配率”或“股利发放率”,是向股东分派的股息占公司盈利的比率。它反映公司的股利分配政策和股利支付能力。它是由 每股股息 除以该公司的 持续经营每股收益 稀释每股收益 而得。
截至2022年12月晶瑞电材过去一年的股息支付率为:
股息支付率 = 年度 每股股息 / 年度 持续经营每股收益
= 0.06 / 0.17
= 0.35
截至2023年9月晶瑞电材 过去一季度股息支付率为:
股息支付率 = 季度 每股股息 / 季度 持续经营每股收益
= 0.05 / 0.01
= 4.24
* 除每股数值,比率,百分比,其他数据单位均为百万。数据的货币单位均为当地股票的交易货币单位。

晶瑞电材 股息支付率 (300655 股息支付率) 解释说明

在股息投资中,股息支付率和股息增长率是需要考虑的两个最重要的变量。较低的股息支付率可能表示公司有更多的空间来增加股息。

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晶瑞电材 (300655) 公司简介

一级行业:基础材料
二级行业:化工
公司网站:www.jingrui-chem.com.cn
公司地址:江苏省苏州市吴中经济开发区善丰路168号
公司简介:公司(SCCC)2001.11.29注册成立,位于苏州市吴中经济开发区澄湖东路,是一家生产销售微电子业用超纯化学材料和其他精细化工产品的上市企业。品种包括氢氟酸、过氧化氢、氨水、盐酸、硫酸、硝酸、异丙醇、冰醋酸、混合酸(硅腐蚀液、铝腐蚀液、铬腐蚀液、BOE、金蚀刻液)氢氧化钾、氢氧化钠、配套试剂等。目前主要产品的纯度为,单项金属杂质含量小于0.1ppb。产品广泛应用于超大规模集成电路、LED、TFT-LCD面板制造过程、太阳能硅片的蚀刻与清洗。